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연합인증

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[한국특허] 베이크 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법
bake apparatus a having the unit and method processing substrate by using thereof
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/324
  • H01L-021/60
  • H01L-021/67
  • H01L-021/683
  • H01L-021/687
출원번호 10-2016-0079989 (2016-06-27)
공개번호 10-2018-0001690 (2018-01-05)
등록번호 10-2516725-0000 (2023-03-28)
DOI http://doi.org/10.8080/1020160079989
발명자 / 주소
  • 이기승 / 충청남도 천안시 서북구 오성로 *** (두정동 , 세종타워빌) ****번지 ***호
  • 민충기 / 충청남도 천안시 동남구 풍세로 ***, ***동 ****호 (청당동, 청당마을신도브래뉴아파트)
  • 구희재 / 충청남도 천안시 서북구 봉서산샛길 ** (쌍용동 , 주공*단지아파트) ***동 ****호
출원인 / 주소
  • 세메스 주식회사 / 충청남도 천안시 서북구 직산읍 *산단*길 ** ( )
대리인 / 주소
  • 권혁수; 송윤호
심사청구여부 있음 (2021-05-21)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 베이크 장치.를 제공한다. 베이크 장치는 내부에 열처리 공간을 제공하는 그리고 일측에 기판 반입반출을 위한 슬롯과 상기 슬롯을 개폐하는 셔터 그리고 상기 셔터를 구동하는 셔터 구동부를 갖는 공정 챔버; 상기 공정 챔버의 열처리 공간에 위치되어 기판을 냉각처리하는 냉각 플레이트; 및 기판을 가열처리하는 가열 처리 유닛을 포함하되; 상기 공정 챔버는 상기 가열 처리 유닛에서의 기판 베이크 처리시 상기 슬롯의 오픈율을 변경하기 위해 상기 셔터 구동부를 제어하는 제어부를 포함할 수 있다.

대표청구항

내부에 열처리 공간을 제공하는 그리고 일측에 기판 반입반출을 위한 슬롯과 상기 슬롯을 개폐하는 셔터 그리고 상기 셔터를 구동하는 셔터 구동부를 갖는 공정 챔버;상기 공정 챔버의 열처리 공간에 위치되어 기판을 냉각처리하는 냉각 플레이트; 및발열체를 갖는 가열 플레이트에 기판을 안착시키고, 처리 공간에서 기판을 베이크 처리하는 가열 처리 유닛을 포함하되;상기 공정 챔버는상기 가열 처리 유닛에서의 기판 베이크 처리시 상기 슬롯의 오픈율을 변경하기 위해 상기 셔터 구동부를 제어하는 제어부를 포함하되,상기 슬롯의 오픈율은,기판이 상기 가열

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 포토레지스트 패턴 베이킹 방법 및 장치 | 서종석, 오창석
  2. [한국] 반도체 제조 설비의 제어 시스템 및 그 방법 | 정홍구, 유동진

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | 이정현, 박민정, 이정열, 신경식, 김준호, 강만규, 김병옥
  2. [한국] 기판 처리 장치 | 강성근

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