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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0107996 (2016-08-24) | |
공개번호 | 10-2018-0022501 (2018-03-06) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160107996 | |
발명자 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-08-24) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
기판상에 원하는 크기의 나노포러스(nanoporous) 구조 및 기공률을 제어하여 형성할 수 있는 나노포러스 구조 막 형성용 스퍼터링 장치에 관한 것으로, 기판에 증착되는 나노포러스의 구조를 형성하기 위한 스퍼터링 장치로서, 상기 기판이 마련된 프로세스 챔버, 상기 프로세스 챔버에 마련된 클러스터 소스 및 상기 클러스터 소스와 프로세스 챔버 사이에 마련되고 적어도 하나의 개구를 구비한 노즐을 포함하고, 상기 프로세스 챔버의 내의 압력과 상기 클러스터 소스의 내의 압력은 상이한 구성을 마련하여, 나노포러스 입자의 크기 및 밀도를 용이
기판에 증착되는 나노포러스(nanoporous)의 구조를 형성하기 위한 스퍼터링 장치로서,상기 기판이 마련된 프로세스 챔버, 상기 프로세스 챔버에 마련된 클러스터 소스 및상기 클러스터 소스와 프로세스 챔버 사이에 마련되고 적어도 하나의 개구를 구비한 노즐을 포함하고,상기 프로세스 챔버의 내의 압력과 상기 클러스터 소스의 내의 압력은 상이한 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치.
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