[특허]화산송이 분말 입자가 다공성 고분자에 함침된 복합분체, 이를 함유하는 화장료 조성물 및 이의 제조방법

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	A61K-008/19 A61K-008/02 A61K-008/72 A61K-008/81 A61Q-019/00
출원번호	10-2016-0122454 (2016-09-23)
공개번호	10-2017-0038679 (2017-04-07)
등록번호	10-2598471-0000 (2023-11-01)
우선권정보	대한민국(KR) 1020150137327 (2015-09-30)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020160122454
발명자 / 주소	이현석 / 경기도 용인시 기흥구 용구대로 ** (보라동) 백동현 / 경기도 시흥시 은행로 -, 동 호 (대야동, 청구아파트) 신진섭 / 경기도 용인시 기흥구 용구대로 (보라동) 양미숙 / 경기도 용인시 기흥구 용구대로 (보라동) 최성욱 / 경기도 부천시 원미구 중동로 , 동 호 (중동, 팰리스카운티) 김용진 / 경기도 용인시 기흥구 용구대로 (보라동) 이존환 / 경기도 용인시 기흥구 용구대로 ** (보라동)
출원인 / 주소	(주)아모레퍼시픽 / 서울특별시 용산구 한강대로 **(한강로가)
대리인 / 주소	김성호
심사청구여부	있음 (2021-06-17)
심사진행상태	등록결정(재심사후)
법적상태	등록

초록 ▼

본 발명은 화산송이 분말과 다공성 고분자의 복합분체에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고분자를 용해시킨 용액에 화산송이 분말을 분산시킨 분산액을 단일공정(One-step)으로 분무하여 제조되는 화산송이 분말 입자가 다공성 고분자의 표면 및 내부에 고르게 함침(Impregnation)된 복합분체(Scoria sphere), 이를 함유하는 화장료 조성물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 화산송이 분말 입자를 다공성 고분자에 고르게 함침시킨 화산송이 함침 분체를 화장료 조성물로서 제형화시키면, 마이크로 사이즈로 미세화된 화산송이

본 발명은 화산송이 분말과 다공성 고분자의 복합분체에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고분자를 용해시킨 용액에 화산송이 분말을 분산시킨 분산액을 단일공정(One-step)으로 분무하여 제조되는 화산송이 분말 입자가 다공성 고분자의 표면 및 내부에 고르게 함침(Impregnation)된 복합분체(Scoria sphere), 이를 함유하는 화장료 조성물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 화산송이 분말 입자를 다공성 고분자에 고르게 함침시킨 화산송이 함침 분체를 화장료 조성물로서 제형화시키면, 마이크로 사이즈로 미세화된 화산송이의 피지 흡유 성능을 다공성 고분자가 보완하여 피지 흡착력이 크게 향상된다.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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