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연합인증

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자기 터널 접합 소자 및 자기 메모리 소자 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-043/02
  • G11C-011/16
  • H01L-043/08
  • H01L-043/10
출원번호 10-2016-0136757 (2016-10-20)
공개번호 10-2018-0043696 (2018-04-30)
등록번호 10-1963482-0000 (2019-03-22)
DOI http://doi.org/10.8080/1020160136757
발명자 / 주소
  • 이경진 / 서울특별시 노원구 중계로 ***, ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 고려대학교 산학협력단 / 서울특별시 성북구 안암로 ***, 고려대학교 (안암동*가)
대리인 / 주소
  • 특허법인 누리
심사청구여부 있음 (2016-10-20)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

본 발명은 자기 터널 접합 소자 및 자기 메모리 소자를 제공한다. 상기 자기 터널 접합 소자는 차례로 적층된 고정 자성체, 절연체, 및 자유 자성체를 구비하는 자기 터널 접합 및 상기 자기 터널 접합의 상기 자유 자성체에 인접하여 상기 자기 터널 접합에 면내 전류를 인가하는 도선을 포함한다. 상기 자기 터널 접합 소자는 상기 고정 자성체는 고정 자화 방향을 갖고, 막 면에 대하여 수직 방향으로 자화되는 물질을 포함하는 박막이고, 상기 자유 자성체는 [보조 자유 자성층/자유 비자성층]N/메인 자유 자성층 구조이며, N은 2 이상의 자

대표청구항

고정 자성체, 자유 자성체, 및 상기 고정 자성체와 상기 자유 자성체 사이에 개재된 절연체를 구비하는 자기 터널 접합 및 상기 자기 터널 접합의 상기 자유 자성체에 인접하여 면내 전류가 흐르는 도선을 포함하는 자기 터널 접합 소자에 있어서,상기 고정 자성체는 고정 자화 방향을 갖고, 막 면에 대하여 수직 방향으로 자화되는 물질을 포함하는 박막이고,상기 자유 자성체는 [보조 자유 자성층/자유 비자성층]N/메인 자유 자성층 구조이며, N은 2 이상의 자연수이고, [보조 자유 자성층/자유 비자성층] 구조가 N번 반복 적층된 구조임을 나타

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 자기 메모리 소자 및 이에 대한 정보 쓰기 방법 | 피웅환, 김광석, 김기원, 이성철, 장영만
  2. [한국] 메모리 셀들, 반도체 디바이스 구조들, 메모리 시스템들, 및 제조의 방법들 | 키니, 웨인 아이., 쿨라, 위톨드, 크라머, 스티븐 제이.
  3. [국제] MAGNETORESISTANCE EFFECT ELEMENT AND MAGNETIC RANDOM ACCESS MEMORY | FUKAMI SHUNSUKE
  4. [국제] MAGNETIC RESISTANCE EFFECT ELEMENT, MAGNETIC MEMORY DEVICE, MANUFACTURING METHOD, OPERATION METHOD, AND INTEGRATED CIRCUIT | FUKAMI SHUNSUKE, OHNO HIDEO, ENDOH TETSUO,
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