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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0139356 (2016-10-25) | |
공개번호 | 10-2018-0045920 (2018-05-08) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160139356 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 열처리 석회석을 이용하여 수중 구리 이온 및 카드뮴 이온을 제거하는 방법과 이를 위한 흡착제에 관한 것이다. 본 발명에서는 900±50℃로 열처리된 석회석을 흡착제로 사용하는 수중 Cu2+ 및 Cd2+ 이온의 제거방법이 제공되며, 또한 수중 Cu2+ 및 Cd2+ 이온 제거를 위한 흡착제로 900±50℃로 열처리된 석회석을 포함하는 수처리용 흡착제가 제공된다. 본 발명에서는 천연광물인 석회석(lime stone)을 900±50℃의 고온에서 열처리함으로써 Cu2+와 Cd2+의 제거율이 높은 새로운 흡착제와 제거방법을 제공한다
900±50℃로 열처리된 석회석을 흡착제로 사용하는 것을 특징으로 하는 수중 Cu2+ 및 Cd2+ 이온의 제거방법.
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