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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0158900 (2016-11-28) | |
공개번호 | 10-2018-0061435 (2018-06-08) | |
등록번호 | 10-1882584-0000 (2018-07-20) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160158900 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-12-12) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 모재에 경질막으로 CrN을 PVD법으로 코팅하고 하고, 나노두께로 적층된 Al2O3/TiO2(nanolaminate-Al2O3/TiO2)을 ALD법으로 적층한 다음 다시 CrN을 PVD법으로 코팅한 다층 코팅막을 제공하였다. 즉, 나노 두께로 적층 된 Al2O3/TiO2(nanolaminate-Al2O3/TiO2)층이 CrN 경질막층의 중간에 삽입된 다층코팅막을 제공한다.
모재의 내식성을 향상하기 위한 코팅 막을 형성하는 방법에 있어서,CrN층을 PVD(Physical Vapor Deposition) 방법으로 형성하고,형성된 CrN층 위에 Al2O3층과 TiO2층을 ALD(atomic layer deposition)에 의해나노라미네이트-Al2O3/TiO2층을 형성하되, 나노라미네이트-Al2O3/TiO2층은 Al2O3와 TiO2층를 각각 ALD법을 사용하여 교대로 반복 적층하여 구성하고,형성된 나노라미네이트-Al2O3/TiO2층 위에 PVD에 의해 CrN층을 형성하여,나노라미네이트-Al2O3/TiO2층
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