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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0163869 (2016-12-02) | |
공개번호 | 10-2017-0066269 (2017-06-14) | |
등록번호 | 10-2632516-0000 (2024-01-29) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020150172154 (2015-12-04) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160163869 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-09-02) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 박막 형성, 특히 원자층 증착(ALD)에 의한 박막 형성에 유용한 박막 형성용 조성물에 관한 것이다.상기 박막 형성용 조성물은 화학식 1로 표시되는 전구체 화합물, 그리고 비공유전자쌍을 가진 원소를 포함하며, 상기 비공유전자쌍을 가진 원소와 직접 결합하는 수소 원자를 포함하지 않는 용매를 포함한다.상기 박막 형성용 조성물은 우수한 열 안정성을 유지하면서 용매의 낮은 점도 및 고 휘발성으로 인해 조성물의 물성 및 휘발성을 개선시킬 수 있다.
하기 화학식 1로 표시되는 전구체 화합물, 그리고비공유전자쌍을 가진 원소를 포함하며, 상기 비공유전자쌍을 가진 원소와 직접 결합하는 수소 원자를 포함하지 않는 용매를 포함하며,상기 용매는 비점이 100℃ 이하이고, 밀도가 0.6 내지 0.8g/cm3인 것인 박막 형성용 조성물:[화학식 1]상기 화학식 1에서,상기 M1은 Ti, Zr 및 Hf로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이며,상기 X11 및 X12는 각각 서로 독립적으로 -N(R3)(R4) 및 -O(R5)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이며,상기 R1 내지 R5는 각각
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