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박막 형성용 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23C-016/30
  • C23C-016/455
출원번호 10-2016-0163869 (2016-12-02)
공개번호 10-2017-0066269 (2017-06-14)
등록번호 10-2632516-0000 (2024-01-29)
우선권정보 대한민국(KR) 1020150172154 (2015-12-04)
DOI http://doi.org/10.8080/1020160163869
발명자 / 주소
  • 정재선 / 대전광역시 유성구 배울*로 **, ***동 ****호 (관평동, 대덕테크노밸리 *단지)
  • 홍창성 / 경기도 용인시 기흥구 한보라*로 **, ***동 ****호 (보라동, 한보라마을휴먼시아*단지아파트)
  • 김현준 / 경상북도 김천시 대항면 대룡*길 ***
  • 신진호 / 충청남도 부여군 임천면 구교로**번길 **-*
  • 김민기 / 서울특별시 노원구 한글비석로 ***, ***동 ****호 (상계동, 보람아파트)
  • 김종문 / 세종특별자치시 연서면 당산로 ***-*, 리치하우스 ***호
출원인 / 주소
  • 솔브레인 주식회사 / 경기도 성남시 분당구 판교로***번길 ** (삼평동,솔브레인)
대리인 / 주소
  • 특허법인뉴코리아
심사청구여부 있음 (2021-09-02)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 박막 형성, 특히 원자층 증착(ALD)에 의한 박막 형성에 유용한 박막 형성용 조성물에 관한 것이다.상기 박막 형성용 조성물은 화학식 1로 표시되는 전구체 화합물, 그리고 비공유전자쌍을 가진 원소를 포함하며, 상기 비공유전자쌍을 가진 원소와 직접 결합하는 수소 원자를 포함하지 않는 용매를 포함한다.상기 박막 형성용 조성물은 우수한 열 안정성을 유지하면서 용매의 낮은 점도 및 고 휘발성으로 인해 조성물의 물성 및 휘발성을 개선시킬 수 있다.

대표청구항

하기 화학식 1로 표시되는 전구체 화합물, 그리고비공유전자쌍을 가진 원소를 포함하며, 상기 비공유전자쌍을 가진 원소와 직접 결합하는 수소 원자를 포함하지 않는 용매를 포함하며,상기 용매는 비점이 100℃ 이하이고, 밀도가 0.6 내지 0.8g/cm3인 것인 박막 형성용 조성물:[화학식 1]상기 화학식 1에서,상기 M1은 Ti, Zr 및 Hf로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이며,상기 X11 및 X12는 각각 서로 독립적으로 -N(R3)(R4) 및 -O(R5)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이며,상기 R1 내지 R5는 각각

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 지르코늄 함유막 형성용 전구체 조성물 및 이를 이용한 지르코늄 함유막 형성 방법 | 이근수, 한정민
  2. [미국] Group IV Metal Complexes For Metal-Containing Film Deposition | Bailey, III, Wade Hampton, Ivanov, Sergei Vladimirovich, Lei, Xinjian, Kim, Moo-Sung
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