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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0181592 (2016-12-28) | |
공개번호 | 10-2018-0076909 (2018-07-06) | |
등록번호 | 10-1900692-0000 (2018-09-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160181592 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-12-28) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 미세 금속 마스크 제조 장치에 관한 것으로, 양극 전극판과 음극 전극판 사이 공간에 중간 실드 모듈을 설치하고 중간 실드 모듈에 형성된 전류 통과홀을 자유롭게 형태 변경할 수 있도록 함으로써, 도금 조건에 따라 최적 상태의 전류 통과홀 형태를 형성할 수 있고, 이에 따라 도금층의 두께를 더욱 균일하게 형성할 수 있을 뿐만 아니라 다양한 도금 조건에서도 더욱 용이하게 도금층 두께의 균일화를 달성할 수 있고, 다수개의 조립 블록을 이용하여 중간 실드 모듈의 전류 통과홀의 형태를 변경할 수 있도록 함으로써, 도금 조건 변화에
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