본 발명은 하기를 포함하는 조성물에 관한 것이다: a) 하나 이상의 1 차, 2 차 또는 3 차 아민 및 b) 상기 하나 이상의 아민의 냄새를 차폐하는 하나 이상의 제제로서, 상기 하나 이상의 냄새-차폐제는 하나 이상의 에테르 (b1), 임의로는 그러나 바람직하게는 하나 이상의 테르펜 및/또는 하나의 테르페노이드 (b2) 및 임의로는 그러나 바람직하게는 하나 이상의 옥심 (b3) 을 포함함. 본 발명은 또한 하나 이상의 아민의 냄새의 차폐를 위한 냄새-차폐제의 용도에 관한 것이다.
대표청구항▼
하기를 포함하는 조성물로서:a) 조성물의 전체 중량에 대해 90 중량% 이상의 하나 이상의 1 차, 2 차 또는 3 차 아민, 및b) 조성물의 전체 중량에 대해 10 중량% 이하의 냄새-차폐제 (b);상기 냄새-차폐제가 하기를 포함하는 조성물:-하나 이상의 식 (b1) 의 에테르:[식 중:●동일 또는 상이할 수 있는 R4 및 R5 는 서로 독립적으로 1 내지 12 개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼, 3 내지 12 개의 탄소 원자를 포함하는 시클로알킬 라디칼, 2 내지 12 개의 탄소 원자를 포함하는 알케닐 라
하기를 포함하는 조성물로서:a) 조성물의 전체 중량에 대해 90 중량% 이상의 하나 이상의 1 차, 2 차 또는 3 차 아민, 및b) 조성물의 전체 중량에 대해 10 중량% 이하의 냄새-차폐제 (b);상기 냄새-차폐제가 하기를 포함하는 조성물:-하나 이상의 식 (b1) 의 에테르:[식 중:●동일 또는 상이할 수 있는 R4 및 R5 는 서로 독립적으로 1 내지 12 개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼, 3 내지 12 개의 탄소 원자를 포함하는 시클로알킬 라디칼, 2 내지 12 개의 탄소 원자를 포함하는 알케닐 라디칼, 3 내지 12 개의 탄소 원자를 포함하는 시클로알케닐 라디칼, 페닐 라디칼 및 벤질 라디칼로부터 선택되고,●R4 및 R5 는 임의로는 이들에 결합된 산소 원자와 함께 3 내지 20 개의 원자를 포함하고 산소, 질소, 황 및 인으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 임의 포함하는 고리 구조를 형성하는데, 상기 고리 구조는 히드록실, 알콕시, 알킬카르보닐, 알콕시카르보닐, 페닐, 벤질, 불소, 염소, 브롬, 요오드, 황, 인 및 질소로부터 선택되는 하나 이상의 기로 임의 치환됨],- 하나 이상의 테르펜 및/또는 하나의 테르페노이드 (b2) 및- 하나 이상의 식 (b3) 의 옥심:[식 중:●R6 은 1 내지 24 개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼, 3 내지 24 개의 탄소 원자를 포함하는 시클로알킬 라디칼, 2 내지 24 개의 탄소 원자를 포함하는 알케닐 라디칼, 3 내지 24 개의 탄소 원자를 포함하는 시클로알케닐 라디칼, 페닐 라디칼 및 벤질 라디칼로부터 선택되고, R7 은 수소 원자, 및 1 내지 24 개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼, 3 내지 24 개의 탄소 원자를 포함하는 시클로알킬 라디칼, 2 내지 24 개의 탄소 원자를 포함하는 알케닐 라디칼, 3 내지 24 개의 탄소 원자를 포함하는 시클로알케닐 라디칼, 페닐 라디칼 및 벤질 라디칼로부터 선택되고,R6 및 R7 은 임의로는 이들에 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 20 개의 원자 를 포함하고 산소, 질소, 황 및 인으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 임의 포함하는 고리 구조를 형성하는데, 상기 고리 구조는 히드록실, 알콕시, 페닐, 벤질, 불소, 염소, 브롬, 요오드, 황, 인 및 질소로부터 선택되는 하나 이상의 기로 임의 치환됨].
연구과제 타임라인
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이 특허에 인용된 특허 (1)
[일본]
MASKING PERFUME COMPOSITION FOR TERTIARY AMINE COMPOUND, AND AMINE CATALYST COMPOSITION FOR POLYURETHANE PRODUCTION |
ISHIDA HIROHIKO,
MORII MASAYOSHI
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