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연합인증

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투습 방지막과 그 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-051/52
  • C23C-016/24
  • C23C-016/44
  • C23C-016/455
  • H01L-021/02
  • H01L-021/205
  • H01L-051/56
출원번호 10-2017-0002003 (2017-01-05)
공개번호 10-2018-0080901 (2018-07-13)
DOI http://doi.org/10.8080/1020170002003
발명자 / 주소
  • 김경민 / 경기도 광주시 오포읍 오포로 ***
  • 김봉식 / 경기도 광주시 오포읍 오포로 ***
  • 이상두 / 경기도 광주시 오포읍 오포로 ***
  • 조원태 / 경기도 광주시 오포읍 오포로 ***
출원인 / 주소
  • 주성엔지니어링(주) / 경기도 광주시 오포읍 오포로 ***
대리인 / 주소
  • 특허법인천문
법적상태 공개

초록

본 발명은 제 1 투습 방지막; 상기 제 1 투습 방지막 상에 형성되는 제 2 투습 방지막; 및 상기 제 2 투습 방지막 상에 형성되는 제 3 투습 방지막을 포함하고 상기 제 2 투습 방지막에서의 산소(O)의 농도는 상기 제 1 투습 방지막 및 상기 제 3 투습 방지막의 산소의 농도보다 큰 것을 포함하는 투습 방지막과 그 제조 방법 및 그를 이용한 유기 발광 소자를 제공한다.

대표청구항

제 1 투습 방지막;상기 제 1 투습 방지막 상에 형성되는 제 2 투습 방지막; 및상기 제 2 투습 방지막 상에 형성되는 제 3 투습 방지막을 포함하고 상기 제 2 투습 방지막에서의 산소(O)의 농도는 상기 제 1 투습 방지막 및 상기 제 3 투습 방지막의 산소의 농도보다 큰 것을 포함하는 투습 방지막.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] HDP-CVD 시스템에서의 입자 성능을 개선하기 위한 시즈닝 프로세스에서의 산소대실란 비율 조절 | 키아, 지안민, 찬,치우, 찬, 다이아나, 레웅, 시시, 사힌, 터굿
  2. [한국] 게이트 절연체의 성막 방법, 게이트 절연체의 성막 장치및 클러스터 툴 | 기류히데키, 다카하시츠요시, 아오야마신타로, 신리키히로시, 이게타마사노부
  3. [일본] ORGANIC EL ELEMENT | TERA AKINOSUKE, ITO TOSHIKI, YAMAMOTO ATSUSHI, SUZUKI HARUMI, OZAKI MASAAKI, YAMAUCHI TAKESHI
  4. [일본] ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT | TAKASHIMA NOBUHIKO
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