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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2017-0002813 (2017-01-09) | |
| 공개번호 | 10-2018-0081916 (2018-07-18) | |
| 등록번호 | 10-2264683-0000 (2021-06-08) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020170002813 | |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2019-06-21) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은 내부에 전극조립체가 내장되어 있고 내부와 연통되는 전해액 주입구가 천공되어 있는 전지셀에 전해액을 주액하는 방법으로서,(a) 전지셀의 전해액 주액구가 전해액에 잠기도록, 전해액이 채워져 있는 챔버 내에 전지셀을 위치시키는 과정;(b) 전지셀 내부의 가스를 제거하기 위하여 챔버의 분위기를 진공으로 설정하는 과정;(c) 전해액이 전지셀 내부로 이동하도록 챔버의 분위기를 가압하는 과정; 및(d) 전극조립체에 대한 전해액의 함침율을 증가시키기 위하여, 상기 과정(b)와 과정(c)를 반복하는 과정;을 포함하는 전해액 주액 방법에
내부에 전극조립체가 내장되어 있고, 상단이 개방되어 있는 각형의 금속 캔, 및 상기 금속 캔의 개방 상단에 장착되고 전해액 주입구가 천공되어 있는 탑 캡을 포함한 전지셀에 전해액을 주액하는 방법으로서,(a) 전지셀의 전해액 주액구가 전해액에 잠기도록, 전해액이 채워져 있는 챔버 내에 전지셀을 위치시키는 과정;(b) 전지셀 내부의 가스를 제거하기 위하여 챔버의 분위기를 진공으로 설정하는 과정;(c) 전해액이 전지셀 내부로 이동하도록 챔버의 분위기를 가압하는 과정; 및(d) 전극조립체에 대한 전해액의 함침율을 증가시키기 위하여, 상기
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