초록 ▼

질산화 미생물 연속 배양방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 미생물 연속 배양방법은 (a) 제1 배양조와 제2 배양조에 각각 수용된 질산화 미생물이 함유된 배양액의 pH농도를 7.3 내지 8.3으로 유지하고 배양액의 온도를 30 내지 37℃로 유지하여 질산화 미생물을 배양하는 단계; (b) 제1 배양조에 수용되어 배양된 질산화 미생물이 함유된 배양액 중 설정량을 제2 배양조에 공급하여 제2 배양조에서 질산화 미생물을 연속적으로 재차 배양하는 단계; 및 (c) 제1 배양조에서 제2 배양조로 질산화 미생물이 함유된 배양

질산화 미생물 연속 배양방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 미생물 연속 배양방법은 (a) 제1 배양조와 제2 배양조에 각각 수용된 질산화 미생물이 함유된 배양액의 pH농도를 7.3 내지 8.3으로 유지하고 배양액의 온도를 30 내지 37℃로 유지하여 질산화 미생물을 배양하는 단계; (b) 제1 배양조에 수용되어 배양된 질산화 미생물이 함유된 배양액 중 설정량을 제2 배양조에 공급하여 제2 배양조에서 질산화 미생물을 연속적으로 재차 배양하는 단계; 및 (c) 제1 배양조에서 제2 배양조로 질산화 미생물이 함유된 배양액이 설정량 공급된 경우에, 제2 배양조에서 재차 배양된 질산화 미생물이 함유된 배양액을 설정량에 대응되는 양만큼 배출하고, 새로운 질산화 미생물이 함유된 배양액을 설정량에 대응되는 양만큼 제1 배양조에 공급하는 단계를 포함한다.

대표청구항 ▼

(a) 제1 배양조와 제2 배양조에 수용된 배양액의 조성은 (NH4)2SO4 2.5g/L와 KH2PO4 0.5g/L와 HEPES 11.92g/L와 NaHCO3 0.5g/L와 MgSO4·7H2O 100mg/L와 CaCl2·2H2O 5.0mg/L 및 Fe-EDTA 75mg/L이며, 상기 제1 배양조와 상기 제2 배양조에 각각 수용된 질산화 미생물이 함유된 배양액의 pH농도를 7.3 내지 8.3으로 유지하고 배양액의 온도를 30 내지 37℃로 유지하며 상기 제1 배양조와 상기 제2 배양조 각각의 바닥면에 배치되어 상기 제1 배양조와 상기

(a) 제1 배양조와 제2 배양조에 수용된 배양액의 조성은 (NH4)2SO4 2.5g/L와 KH2PO4 0.5g/L와 HEPES 11.92g/L와 NaHCO3 0.5g/L와 MgSO4·7H2O 100mg/L와 CaCl2·2H2O 5.0mg/L 및 Fe-EDTA 75mg/L이며, 상기 제1 배양조와 상기 제2 배양조에 각각 수용된 질산화 미생물이 함유된 배양액의 pH농도를 7.3 내지 8.3으로 유지하고 배양액의 온도를 30 내지 37℃로 유지하며 상기 제1 배양조와 상기 제2 배양조 각각의 바닥면에 배치되어 상기 제1 배양조와 상기 제2 배양조의 내부 측벽을 향해 공기가 함유된 배양액을 분사하는 기액 분사부를 구비한 공기 공급모듈을 이용하여 배양액의 용존산소의 농도를 2 내지 4ppm으로 유지하여 질산화 미생물을 배양하는 단계;(b) 상기 제1 배양조에 수용되어 배양된 질산화 미생물이 함유된 배양액 중 설정량을 상기 제1 배양조와 상기 제2 배양조를 상호 연통되게 연결하며 상기 제1 배양조에 수용된 질산화 미생물이 함유된 배양액이 유입되는 유입구와 질산화 미생물이 함유된 배양액이 상기 제2 배양조로 배출되는 배출구를 구비한 미생물 공급유로를 통해 상기 제2 배양조에 공급하여 상기 제2 배양조에서 질산화 미생물을 연속적으로 재차 배양하는 단계; 및(c) 상기 제1 배양조에서 상기 제2 배양조로 질산화 미생물이 함유된 배양액이 설정량 공급된 경우에, 상기 제2 배양조에서 재차 배양된 질산화 미생물이 함유된 배양액을 상기 제2 배양조의 배양액 배출부를 통해 상기 설정량에 대응되는 양만큼 배출하고, 새로운 질산화 미생물이 함유된 배양액을 상기 설정량에 대응되는 양만큼 상기 제1 배양조에 공급하는 단계를 포함하며,상기 제1 배양조에 마련된 상기 기액 분사부는 상기 제1 배양조의 중심에 대해 상기 유입구 방향으로 편심되게 배치되며, 상기 기액 분사부에 의해 상기 제1 배양조에 수용된 질산화 미생물이 함유된 배양액은 상승되어 상기 유입구는 상기 제1 배양조에 수용된 질산화 미생물이 함유된 배양액의 상승높이보다 낮은 위치에 배치되며,상기 제2 배양조에 마련된 상기 기액 분사부는 상기 제2 배양조의 중심에 대해 상기 배양액 배출부 방향으로 편심되게 배치되며, 상기 기액 분사부에 의해 상기 제2 배양조에 수용된 질산화 미생물이 함유된 배양액은 상승되어 상기 배양액 배출부는 상기 제2 배양조에 수용된 질산화 미생물이 함유된 배양액의 상승높이보다 낮은 위치에 배치되는 질산화 미생물 연속 배양방법.