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IGZO 폐스크랩으로부터 인듐, 갈륨의 분리 회수를 통한 산화갈륨(-Ga2O3)의 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C01G-015/00
  • C04B-035/457
  • C22B-058/00
출원번호 10-2017-0047491 (2017-04-12)
등록번호 10-1902903-0000 (2018-09-20)
DOI http://doi.org/10.8080/1020170047491
발명자 / 주소
  • 이재용 / 서울특별시 구로구 경인로 ***, ***동 ****호 (신도림동, 신도림*차동아아파트)
  • 송상현 / 인천광역시 남구 승학길***번길 **, ***동 ***호 (주안동, 주안한신휴플러스)
출원인 / 주소
  • (주)한청알에프 / 인천광역시 남동구 고잔로**번길 **-* (고잔동)
대리인 / 주소
  • 김국진
심사청구여부 있음 (2017-04-12)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 IGZO 폐스크랩으로부터 인듐, 갈륨의 분리 회수를 통한 산화갈륨(-Ga2O3)의 제조 방법 및 그 분말에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)로부터 아연을 효과적으로 제거하고, 인듐과 갈륨을 분리하여 이를 통해 산화갈륨을 수득하는 IGZO 폐스크랩으로부터 인듐, 갈륨의 분리 회수를 통한 산화갈륨(-Ga2O3)의 제조 방법 및 그 분말에 관한 것이다.본 발명은 (a) 폐 IGZO 타겟을 산 용액으로 용해시키는 단계; (b) 인듐, 갈륨, 아연을 함유하는 산 용액에 알칼리

대표청구항

(a) 폐 IGZO 타겟을 산 용액으로 용해시키는 단계; (b) 인듐, 갈륨, 아연을 함유하는 산 용액에 알칼리 용액을 첨가하여 pH를 조절하여 아연을 제거하고, 수산화인듐과 수산화갈륨을 회수하는 단계; (c) 회수된 수산화인듐과 수산화갈륨을 알칼리 용액으로 용해하여 pH를 10 내지 13로 조절하여 인듐과 갈륨을 분리하는 단계;(d) 분리된 수산화인듐을 산 용해한 후 치환하여 인듐을 회수하는 단계; (e) 분리된 갈륨이 함유되어 있는 여액에 산을 첨가하여 수산화갈륨으로 환원 침전시키는 단계;(f) 회수된 수산화갈륨을 산에 재 용해

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] IGZO 산화물 타겟 습식 회수를 통한 산화물 반도체용 산화 갈륨의 제조방법 | 장지영, 안우성, 양승호, 윤원규
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