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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-0057410 (2017-05-08) | |
등록번호 | 10-1816480-0000 (2018-01-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020170057410 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2017-05-08) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
클리닝 장치 및 방법이 개시된다. 클리닝 장치는, 기판(Substrate), 기판 위에 배열되는 적어도 하나의 전극(Electrode), 전극에 미리 설정된 기준 주파수를 기준으로 고주파 교류 전압을 인가하는 전압 인가부 및 기준 주파수를 기준으로 저주파수로 인가되는 고주파 교류 전압을 온오프(on/off) 스위칭하는 스위칭부를 포함하되, 스위칭에 따라 전도성 액적(droplet) 및 비전도성 액적이 모두 제거 가능하다.
기판(Substrate);상기 기판 위에 배열되는 적어도 하나의 전극(Electrode);상기 전극에 미리 설정된 기준 주파수를 기준으로 고주파 교류 전압을 인가하는 전압 인가부; 및상기 기준 주파수를 기준으로 저주파수 주기로 상기 인가되는 고주파 교류 전압을 온오프(on/off) 스위칭하여 한 주기 내에 고주파 교류 전압 및 저주파 교류 전압을 모두 발생시키는 스위칭부를 포함하되,상기 스위칭에 따라 전도성 액적(droplet) 및 비전도성 액적이 모두 제거 가능한 것을 특징으로 하는 클리닝 장치.
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