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[한국특허] 무지부 이중 마스킹을 통한 전극 제조방법
A method of preparing an electrode by 2-layerd masking of active-material-non-coated-part
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01M-004/04
  • H01M-004/70
출원번호 10-2017-0074718 (2017-06-14)
공개번호 10-2018-0136144 (2018-12-24)
등록번호 10-2399073-0000 (2022-05-12)
DOI http://doi.org/10.8080/1020170074718
발명자 / 주소
  • 한현규 / 세종특별자치시 달빛*로 ***, ***동 ***호(아름동, 범지기마을 *단지)
  • 최대식 / 대전광역시 유성구 엑스포로 ***, ***동 ***호(전민동, 엑스포아파트)
출원인 / 주소
  • 주식회사 엘지에너지솔루션 / 서울특별시 영등포구 여의대로 ***, 타워* (여의도동,파크원)
대리인 / 주소
  • 김홍균; 유수진
심사청구여부 있음 (2020-01-09)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 무지부 이중 마스킹을 통한 전극 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 (a) 전극 집전체 일면의 무지부가 형성될 부분에 1차로 마스킹하여 하층부를 형성하는 단계; (b) 상기 하층부 상에 2차로 마스킹하여 상층부를 형성하는 단계; 및 (c) 상기 상층부의 상면을 포함하는 전극 집전체 일면 전체에 전극 슬러리를 도포하고, 건조 후 압연하는 단계;를 포함하는 이차전지의 단위 전극 제조방법에 관한 것이다.본 발명에서 제공하는 제조방법에 의하여 이차전지용 단위 전극을 제조하게 되면 종래 기술에 비하여 무지부와 코팅부의 경계가

대표청구항

(a) 전극 집전체 일면의 무지부가 형성될 부분에,무지부와 코팅부의 일측 경계선에 인접하여 진행 방향(MD 방향)으로,무지부보다 좁은 폭을 갖는 긴 띠 형상의 절연 테이프로 1차 마스킹하여 하층부를 형성하는 단계;(b) 상기 하층부 상에 2차로 마스킹하여 상층부를 형성하는 단계;(c) 상기 상층부의 상면을 포함하는 전극 집전체 일면 전체에 전극 슬러리를 도포하고, 건조 후 압연하는 단계;(d) 상기 압연된 전극 집전체에서 상기 상층부를 제거하는 단계; 및(e) 상기 상층부가 제거된 전극 집전체를 단위 전극 크기로 타발하고 노칭하는

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 리튬 이차전지 | 이정훈, 양두경, 유성훈, 강유선, 이경미
  2. [일본] TREATMENT OF COLLECTOR AND TREATING DEVICE FOR COLLECTOR | TAKAYAMA HAJIME
  3. [일본] MASKING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRODE FOR USE IN NONAQUEOUS ELECTROLYTIC BATTERY | ENDO SEIICHI, IWASHITA YUJI, TSUNODA EIZO

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