본 발명은 친환경 반응성 염료 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 셀룰로오스계 섬유의 염색에서 용수와 에너지 사용을 절감할 수 있는 친환경적 저욕비 염색이 가능하고, 균염성이 우수하며, 고수세성 및 고재현성을 나타내는 염료 조성물에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 반염 시간은 빠르지만 불균염이 없고, 우수한 흡착 및 고착율로 잔액이 적으며, 수세성이 좋고, 수세 견뢰도 또한 양호한 특성을 가진 적색 염료를 제공할 수 있다. 이로 인해 기존 제품보다 저욕비(低浴比)를 나타내고, 고수세성을 나타내는 바, 폐수 처리 및 에너지 비용
본 발명은 친환경 반응성 염료 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 셀룰로오스계 섬유의 염색에서 용수와 에너지 사용을 절감할 수 있는 친환경적 저욕비 염색이 가능하고, 균염성이 우수하며, 고수세성 및 고재현성을 나타내는 염료 조성물에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 반염 시간은 빠르지만 불균염이 없고, 우수한 흡착 및 고착율로 잔액이 적으며, 수세성이 좋고, 수세 견뢰도 또한 양호한 특성을 가진 적색 염료를 제공할 수 있다. 이로 인해 기존 제품보다 저욕비(低浴比)를 나타내고, 고수세성을 나타내는 바, 폐수 처리 및 에너지 비용을 크게 절감(대략 1/2 정도 절감)함으로써 환경 친화성 및 경제성 면에서도 유리할 수 있다.
대표청구항▼
하기 화학식 1로 표시되는 염료 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 염료 화합물을 포함하는 염료 조성물. [화학식 1] 상기 화학식 1에서,M은 수소 또는 알칼리 금속이고,a는 0 내지 1이고,a′는 0 내지 2이며,R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환의 C1~C4 알킬기, 페닐기 또는 벤질기이며,U1은 비닐기 또는 일반식 -CH2-CH2-Q기로서, 여기서 Q는 알칼리 조건하에서 제거될 수 있는 리빙 그룹(Leaving group)으로서, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -OCOCH3, -OPO3H2,
하기 화학식 1로 표시되는 염료 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 염료 화합물을 포함하는 염료 조성물. [화학식 1] 상기 화학식 1에서,M은 수소 또는 알칼리 금속이고,a는 0 내지 1이고,a′는 0 내지 2이며,R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환의 C1~C4 알킬기, 페닐기 또는 벤질기이며,U1은 비닐기 또는 일반식 -CH2-CH2-Q기로서, 여기서 Q는 알칼리 조건하에서 제거될 수 있는 리빙 그룹(Leaving group)으로서, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -OCOCH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1~C4 알킬 또는 OSO2N(C1~C4 알킬)이고, X1은 할로겐, 히드록시기, 3-카르복시피리딘-1-일, 4-카르복시피리딘-1-일, 2-카바모일피리딘-1-일, C1~C4 알킬기, 치환 또는 비치환의 아민기, 헤테로 원자를 추가로 함유할 수 있는 N-헤테로사이클기 또는 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물로서, [화학식 3]상기 화학식 3에서,k는 0 내지 2이고,R6는 수소 또는, 치환 또는 비치환의 C1~C4 알킬기이고,R7는 수소 또는 설포(sulfo), 할로겐, C1~C4 알킬기, C1~C4 알콕시, 또는 카르복실기이고,U3는 비닐기 또는 일반식 -CH2-CH2-Q기로서, 여기서 Q는 알칼리 조건하에서 제거될 수 있는 리빙 그룹(Leaving group)로서, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -OCOCH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1~C4 알킬 또는 OSO2N(C1~C4 알킬)이고, 상기 화학식 1에서, Z1은 C1~C4 알킬, C1~C4 알콕시로 치환되거나 치환되지 않은 아미노기, 헤테로 원자를 추가로 함유할 수 있는 N-헤테로사이클기, 또는 하기 화학식 4a, 4b, 4c 또는 4d로 표시되는 화합물로서,[화학식 4a]상기 화학식 4a에서, l은 0 내지 3이고,R8은 수소, 설포, 할로겐, C1~C4 알킬, C1~C4 알콕시, 또는 카르복실기이며,U4는 비닐기 또는 일반식 -CH2-CH2-Q기로서, 여기서 Q는 알칼리 조건하에서 제거될 수 있는 리빙 그룹(Leaving group)으로서, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -OCOCH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1~C4 알킬 또는 OSO2N(C1~C4 알킬)이고, [화학식 4b]상기 화학식 4b에서,m은 0 내지 3이고,n은 1 내지 6이고,U5는 비닐기 또는 일반식 -CH2-CH2-Q기로서, 여기서 Q는 알칼리 조건하에서 제거될 수 있는 리빙 그룹(Leaving group)으로서, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -OCOCH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1~C4 알킬 또는 OSO2N(C1~C4 알킬)이고, [화학식 4c]상기 화학식 4c에서,o은 0 내지 3이고,R9은 수소, 설포, 할로겐, C1~C4 알킬, C1~C4 알콕시, 또는 카르복실기이고,U6는 비닐기 또는 일반식 -CH2-CH2-Q기로서, 여기서 Q는 알칼리 조건하에서 제거될 수 있는 리빙 그룹(Leaving group)으로서, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -OCOCH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1~C4 알킬 또는 OSO2N(C1~C4 알킬)이고, [화학식 4d]상기 화학식 4d에서,q은 0 내지 3이고,r은 0 내지 2이고,R10은 수소, 히드록시기, 할로겐, 시아노, C1~C4 알콕시, C1~C4 알콕시 카르보닐, 또는 카르보닐기이며,단, 상기 화학식 1에서, Z1이 화학식 4b로 표시되는 화합물일 때, R2는 수소, 치환 또는 비치환의 C1~C4 알킬, 또는 C1~C4 알킬, C1~C4 알콕시, 할로겐, 카르복실 또는 설포로 치환된 페닐 또는 벤질기임.[화학식 2]상기 화학식 2에서,M은 수소 또는 알칼리 금속이고,b는 0 내지 1이고,b′는 0 내지 3이며,R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환의 C1~C4 알킬기, 페닐기 또는 벤질기이며,R5는 술폰기, 히드록시기, 치환 또는 치환되지 않은 C1~C4 알킬기, 치환 또는 비치환의 C1~C4 알콕시, 또는 치환 또는 비치환의 카르복실기이고, 단, R5가 벤젠환에 결합되는 경우에 술폰기는 제외되며,U2는 비닐기 또는 일반식 -CH2-CH2-Q기로서, 여기서 Q는 알칼리 조건하에서 제거될 수 있는 리빙 그룹(Leaving group)으로서, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -OCOCH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1~C4 알킬 또는 OSO2N(C1~C4 알킬)이고, X2는 할로겐, 히드록시기, 3-카르복시피리딘-1-일, 4-카르복시피리딘-1-일, 2-카바모일피리딘-1-일, C1~C4 알킬기, 치환 또는 비치환의 아미노기, 헤테로 원자를 추가로 함유할 수 있는 N-헤테로사이클기 또는 하기 화학식 3로 표시되는 화합물로,[화학식 3]상기 화학식 3에서,k는 0 내지 2이고,R6는 수소 또는, 치환 또는 비치환의 C1~C4 알킬기이고,R7는 수소 또는 설포, 할로겐, C1~C4 알킬기, C1~C4 알콕시, 또는 카르복실기이고,U3는 비닐기 또는 일반식 -CH2-CH2-Q기로서, 여기서 Q는 알칼리 조건하에서 제거될 수 있는 리빙 그룹(Leaving group)으로서, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -OCOCH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1~C4 알킬 또는 OSO2N(C1~C4 알킬)이고, 상기 화학식 2에서 Z2는 C1~C4 알킬, C1~C4 알콕시로 치환되거나 치환되지 않은 아미노기, 헤테로 원자를 추가로 함유할 수 있는 N-헤테로사이클기, 또는 하기 화학식 4a, 4b, 4c 또는 4d로 표시되는 화합물로,[화학식 4a]상기 화학식 4a에서, l은 0 내지 3이고,R8은 수소, 설포, 할로겐, C1~C4 알킬, C1~C4 알콕시, 또는 카르복실기이며,U4는 비닐기 또는 일반식 -CH2-CH2-Q기로서, 여기서 Q는 알칼리 조건하에서 제거될 수 있는 리빙 그룹(Leaving group)으로서, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -OCOCH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1~C4 알킬 또는 OSO2N(C1~C4 알킬)이고, [화학식 4b]상기 화학식 4b에서,m은 0 내지 3이고,n은 1 내지 6이고,U5는 비닐기 또는 일반식 -CH2-CH2-Q기로서, 여기서 Q는 알칼리 조건하에서 제거될 수 있는 리빙 그룹(Leaving group)으로서, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -OCOCH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1~C4 알킬 또는 OSO2N(C1~C4 알킬)이고, [화학식 4c]상기 화학식 4c에서,o은 0 내지 3이고,R9은 수소, 설포, 할로겐, C1~C4 알킬, C1~C4 알콕시, 또는 카르복실기이고,U6는 비닐기 또는 일반식 -CH2-CH2-Q기로서, 여기서 Q는 알칼리 조건하에서 제거될 수 있는 리빙 그룹(Leaving group)으로서, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -OCOCH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1~C4 알킬 또는 OSO2N(C1~C4 알킬)이고, [화학식 4d]상기 화학식 4d에서,q은 0 내지 3이고,r은 0 내지 2이고,R10은 수소, 히드록시기, 할로겐, 시아노, C1~C4 알콕시, C1~C4 알콕시 카르보닐, 또는 카르보닐기이며,단, 화학식 2에서, Z2가 화학식 4b로 표시되는 화합물일 경우, R4는 수소, 치환 또는 비치환의 C1~C4 알킬, 또는 C1~C4 알킬, C1~C4 알콕시, 할로겐, 카르복실 또는 설포로 치환된 페닐 또는 벤질기임.
발명자의 다른 특허 :
연구과제 타임라인
LOADING...
LOADING...
LOADING...
LOADING...
LOADING...
이 특허에 인용된 특허 (2)
[일본]
DYE COMPOSITION AND DYEING METHOD USING THE SAME |
HIBARA TOSHIO,
TAKAHASHI YOSUKE
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.