초록

본 발명은 스티렌화 페놀의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 저온 공정 조건임에도 불구하고, 고수율로 스티렌화 페놀을 제조할 수 있으며, 반응물질인 스티렌 화합물의 잔류량을 최소화함은 물론 생성물질의 조성비의 변화를 최소화할 수 있어 균일한 생성물질을 수득할 수 있다. 특히, 본 발명에 따르면 할로겐화제의 사용량을 조절함에 따라 다이 스티렌화 페놀의 선택성을 용이하게 조절할 수 있다.

대표청구항

인듐 클로라이드; 및N-브로모 숙신이미드, N-클로로 숙신이미드, N-아이오도 숙신이미드, N-브로모 프탈이미드, N-클로로 프탈이미드 및 N-아이오도 프탈이미드에서 선택되는 하나 이상인 할로겐화제 존재 하에서,0 내지 60℃ 이하의 반응온도에서 페놀 화합물과 스티렌 화합물을 반응시키는 단계;를 포함하는 스티렌화 페놀의 제조방법.

인듐 클로라이드; 및N-브로모 숙신이미드, N-클로로 숙신이미드, N-아이오도 숙신이미드, N-브로모 프탈이미드, N-클로로 프탈이미드 및 N-아이오도 프탈이미드에서 선택되는 하나 이상인 할로겐화제 존재 하에서,0 내지 60℃ 이하의 반응온도에서 페놀 화합물과 스티렌 화합물을 반응시키는 단계;를 포함하는 스티렌화 페놀의 제조방법.