초록

본 발명은 반도체 제조공정의 폭발성 폐 가스 처리장치에 관한 것으로, 반도체 및 디스플레이 사업장에서 발생하는 폭발성 가스 수소, 암모니아 그리고 전구체로 사용되는 실란, 디클로로실란 가스 등을 플라즈마 토치를 활용하여 안전하게 분해하고, 기존에 플라즈마 토치 후 습식으로 냉각하는 방법과 달리 본 발명에서는 플라즈마 토치 연소 후 배기가스와의 열 교환방식으로 냉각시킴은 물론 전체 시스템 효율을 높이기 위하여 축열재를 처리장치에 추가하여 배기가스의 폐열 회수율을 높여서 에너지 효율성 및 폭발성 가스 분해 효율을 높일 수 있다.

대표청구항 ▼

반도체 제조공정에서 발생하는 폐 가스를 분해하고, 배기가스로부터 폐열을 회수하여 외부로 배출하는 반도체 제조공정의 폭발성 가스 처리장치로서,폐 가스가 유입되는 폐 가스 공급 부와, 산화제가 유입되는 산화제 공급 부와, 상기 폐 가스 공급 부를 흐르는 폐 가스를 가열하기 위한 제1 열교환 부와, 상기 산화제 공급 부를 흐르는 산화제를 가열하기 위한 제2 열교환 부를 구비하는 열교환 유닛;폐 가스를 연소하여 분해하기 위하여 상기 폐 가스 공급 부로부터 공급된 폐 가스와 상기 산화제 공급 부로부터 공급된 산화제가 혼입되는 연소 챔버;음전

반도체 제조공정에서 발생하는 폐 가스를 분해하고, 배기가스로부터 폐열을 회수하여 외부로 배출하는 반도체 제조공정의 폭발성 가스 처리장치로서,폐 가스가 유입되는 폐 가스 공급 부와, 산화제가 유입되는 산화제 공급 부와, 상기 폐 가스 공급 부를 흐르는 폐 가스를 가열하기 위한 제1 열교환 부와, 상기 산화제 공급 부를 흐르는 산화제를 가열하기 위한 제2 열교환 부를 구비하는 열교환 유닛;폐 가스를 연소하여 분해하기 위하여 상기 폐 가스 공급 부로부터 공급된 폐 가스와 상기 산화제 공급 부로부터 공급된 산화제가 혼입되는 연소 챔버;음전극과 양전극 사이에서 발생하는 전기적 아크로써 플라즈마를 형성시켜서 상기 연소 챔버 내의 폐 가스를 연소시키는 플라즈마 토치;상기 연소 챔버 내에서 연소되어 일차로 분해 처리된 배기가스를 재차 분해하기 위하여 내부에 축열재가 설치된 반응 챔버; 및상기 반응 챔버를 거친 배기가스를 배출하기 위하여 상기 반응 챔버와 상기 열교환 유닛을 연결하는 배기가스 배출관; 을 포함하되,상기 제1 열교환 부에서는 상기 배기가스 배출관을 통해서 배출되는 배기가스로부터 열을 회수하여 상기 폐 가스 공급 부의 폐 가스를 가열하며, 상기 제2 열교환 부에서는 상기 배기가스 배출관을 통해서 배출되는 배기가스로부터 열을 회수하여 상기 산화제 공급 부의 산화제를 가열하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조공정의 폭발성 폐 가스 처리장치.