초록 ▼

본 발명에 따른 부엽 억제를 위한 파라볼릭 오프셋 안테나 혼 지지대 설계 방법을 이용한 안테나 시스템은, 반사판의 주면은 파라볼릭 곡면 특성을 따르며 하나의 초점을 가지고 상기 초점의 높이가 상기 반사판의 중앙 높이보다 낮은 오프셋 파라볼릭 안테나; 및 특정 각도 범위 밖에서 부엽 수준을 기 설정된 수준 이하로 제한하도록 설계된 위치에 배치되는 혼 지지대를 포함하고, 상기 혼 지지대는 혼 지지대 회피 기준 구역의 바깥쪽에 배치되는 것을 특징으로 하고, 오프셋 파라볼릭 곡면의 고유 파라미터인 초점값, 오프셋 높이와 기준 회피 각도에

본 발명에 따른 부엽 억제를 위한 파라볼릭 오프셋 안테나 혼 지지대 설계 방법을 이용한 안테나 시스템은, 반사판의 주면은 파라볼릭 곡면 특성을 따르며 하나의 초점을 가지고 상기 초점의 높이가 상기 반사판의 중앙 높이보다 낮은 오프셋 파라볼릭 안테나; 및 특정 각도 범위 밖에서 부엽 수준을 기 설정된 수준 이하로 제한하도록 설계된 위치에 배치되는 혼 지지대를 포함하고, 상기 혼 지지대는 혼 지지대 회피 기준 구역의 바깥쪽에 배치되는 것을 특징으로 하고, 오프셋 파라볼릭 곡면의 고유 파라미터인 초점값, 오프셋 높이와 기준 회피 각도에 따라 계산된 회피 구역을 이용하여 기준 회피 각도 내에 부엽에 영향을 받지 않도록 할 수 있다.

대표청구항 ▼

부엽 억제를 위한 파라볼릭 오프셋 안테나 혼 지지대 설계 방법을 이용한 안테나 시스템에 있어서, 반사판의 주면은 파라볼릭 곡면 특성을 따르며 하나의 초점을 가지고 상기 초점의 높이가 상기 반사판의 중앙 높이보다 낮은 오프셋 파라볼릭 안테나; 및메인 빔으로부터 특정 각도 범위 밖에서 원하는 부엽 수준을 기 설정된 수준 이하로 제한하도록 설계된 위치인 혼 지지대 회피 기준 구역의 바깥쪽에 배치되는 혼 지지대를 포함하고,상기 혼 지지대 회피 기준 구역은, 반사판 안쪽으로 반사되는 벡터인 를 기준으로 지정되고, 상기 벡터는와 같이 결정되고

부엽 억제를 위한 파라볼릭 오프셋 안테나 혼 지지대 설계 방법을 이용한 안테나 시스템에 있어서, 반사판의 주면은 파라볼릭 곡면 특성을 따르며 하나의 초점을 가지고 상기 초점의 높이가 상기 반사판의 중앙 높이보다 낮은 오프셋 파라볼릭 안테나; 및메인 빔으로부터 특정 각도 범위 밖에서 원하는 부엽 수준을 기 설정된 수준 이하로 제한하도록 설계된 위치인 혼 지지대 회피 기준 구역의 바깥쪽에 배치되는 혼 지지대를 포함하고,상기 혼 지지대 회피 기준 구역은, 반사판 안쪽으로 반사되는 벡터인 를 기준으로 지정되고, 상기 벡터는와 같이 결정되고,은 기준 고각 각도 θel와 기준 방위각 각도 θaz에 따라서 반사판 안쪽으로 반사되는 벡터이고, 이고, 이고, f는 파라볼릭 오프셋 안테나의 초점, D는 상기 파라볼릭 오프셋 안테나의 유효 개구면의 직경, h는 상기 파라볼릭 오프셋 안테나의 중점과 초점 사이의 높이, n은 상기 파라볼릭 오프셋 안테나의 곡면 테두리 개수인 것을 특징으로 하는, 안테나 시스템.