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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-0152446 (2017-11-15) | |
공개번호 | 10-2019-0055581 (2019-05-23) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020170152446 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명의 분리막 후처리 방법은 분리막 제조후 분리막에 함유된 첨가제를 제거하는 후처리 공정에 있어서, 초임계 유체를 이용하여 상기 제조된 분리막으로부터 첨가제를 추출하는 것을 특징으로 한다.
분리막 제조후 분리막에 함유된 첨가제를 제거하는 후처리 공정에 있어서, 초임계 유체를 이용하여 상기 제조된 분리막으로부터 첨가제를 추출하는 것을 특징으로 하는, 분리막 후처리 방법.
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