초록 ▼

본 발명의 일 실시 예는, 분말의 구형화 공정 중 에칭가스를 공급하여, 플라즈마 반응기 내부의 온도를 급속 냉각시키거나, 플라즈마 반응기 내부의 수소비를 증가시켜 플라즈마 반응기 내부를 환원 분위기로 유지함으로써, 분말에 포함되는 산소의 양이 감소되어, 고순도의 분말을 제조할 수 있는 방법을 제공한다. 본 발명의 실시 예에 따른 고순도 구형 분말의 제조방법은, i) 분말을 플라즈마 반응기에 공급하는 단계; ii) 플라즈마 반응기 내부를 환원 분위기로 유지시키며, 플라즈마 및 유도가열로 각형의 분말을 가열시켜 구형화시킴으로써 구형의

본 발명의 일 실시 예는, 분말의 구형화 공정 중 에칭가스를 공급하여, 플라즈마 반응기 내부의 온도를 급속 냉각시키거나, 플라즈마 반응기 내부의 수소비를 증가시켜 플라즈마 반응기 내부를 환원 분위기로 유지함으로써, 분말에 포함되는 산소의 양이 감소되어, 고순도의 분말을 제조할 수 있는 방법을 제공한다. 본 발명의 실시 예에 따른 고순도 구형 분말의 제조방법은, i) 분말을 플라즈마 반응기에 공급하는 단계; ii) 플라즈마 반응기 내부를 환원 분위기로 유지시키며, 플라즈마 및 유도가열로 각형의 분말을 가열시켜 구형화시킴으로써 구형의 분말을 생성하는 단계; iii) 플라즈마 반응기 내부의 산화 분위기 방지를 위해, 냉각을 수행하는 가스인 에칭가스를 주입함으로써, 구형의 분말을 급속 냉각시키는 단계; 및 iv) 플라즈마 반응기로부터 구형의 분말을 배출하는 단계;를 포함한다.

대표청구항 ▼

i) 분말을 플라즈마 반응기에 공급하고, 상기 플라즈마 반응기에서, 상온 이상이고 상기 분말의 깁스에너지가 0인 온도 이하인 온도 범위에 해당하는 A 온도 구간에서 온도를 상승시키면서 상기 분말을 통과시키는 단계;ii) 상기 플라즈마 반응기에서, 상기 분말의 깁스에너지가 0인 온도를 초과하고 온도가 변화되는 변곡점 온도 이하인 온도 범위에 해당하는 B 온도 구간에서 온도를 상승시켜, 상기 플라즈마 반응기 내부를 환원 분위기로 유지시키며, 플라즈마 및 유도가열로 각형의 상기 분말을 가열시켜 구형화시킴으로써 구형의 분말을 생성하는 단계

i) 분말을 플라즈마 반응기에 공급하고, 상기 플라즈마 반응기에서, 상온 이상이고 상기 분말의 깁스에너지가 0인 온도 이하인 온도 범위에 해당하는 A 온도 구간에서 온도를 상승시키면서 상기 분말을 통과시키는 단계;ii) 상기 플라즈마 반응기에서, 상기 분말의 깁스에너지가 0인 온도를 초과하고 온도가 변화되는 변곡점 온도 이하인 온도 범위에 해당하는 B 온도 구간에서 온도를 상승시켜, 상기 플라즈마 반응기 내부를 환원 분위기로 유지시키며, 플라즈마 및 유도가열로 각형의 상기 분말을 가열시켜 구형화시킴으로써 구형의 분말을 생성하는 단계;iii) 상기 플라즈마 반응기 내부의 산화 분위기 방지를 위해, 상기 B 온도 구간에서, 상기 플라즈마 반응기의 자기장 출력이 변화하는 시점의 온도인 상기 변곡점 온도가 형성되는 상기 플라즈마 반응기 내부 일 부위에 대해 냉각을 수행하는 가스인 에칭가스를 주입하여 상기 플라즈마 반응기 내부의 온도를 감소시킴으로써, 구형의 상기 분말을 급속 냉각시키는 단계; 및iv) 상기 플라즈마 반응기로부터 구형의 상기 분말을 배출하는 단계;를 포함하고,상기 분말의 구형화가 환원 분위기에서 수행되어, 구형의 상기 분말 입자의 산소 농도 증가가 방지됨으로써 구형의 상기 분말 순도 저하가 방지되는 것을 특징으로 하는 고순도 구형 분말의 제조방법.