[특허]회절 광학 소자를 포함한 에프세타 렌즈 및 이를 구비한 광학 시스템

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회절 광학 소자를 포함한 에프세타 렌즈 및 이를 구비한 광학 시스템 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	G02B-013/00 C03C-003/04 G02B-027/09
출원번호	10-2017-0172943 (2017-12-15)
공개번호	10-2019-0072701 (2019-06-26)
등록번호	10-2554342-0000 (2023-07-06)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020170172943
발명자 / 주소	아슬라노브, 에밀 / 경기도 용인시 기흥구 삼성로 * (농서동) 보로노프, 알렉산더 / 경기도 용인시 기흥구 삼성로 * (농서동) 한규완 / 경기도 용인시 기흥구 삼성로 * (농서동)
출원인 / 주소	삼성디스플레이 주식회사 / 경기도 용인시 기흥구 삼성로 * (농서동)
대리인 / 주소	오종한; 문용호
심사청구여부	있음 (2020-11-04)
심사진행상태	등록결정(재심사후)
법적상태	등록

초록

본 발명의 실시예는 에프세타 렌즈에 관한 것이다.본 발명의 실시예에 의한 에프세타 렌즈는, 회절 광학 소자 및 복수의 구면 렌즈들을 포함한다. 상기 회절 광학 소자는, 일면 상에 배치된 3 레벨 이상의 멀티 레벨 회절 구조체를 포함하며, 레이저 빔이 진행하는 경로 상에서 상기 구면 렌즈들에 앞서 제1 요소로서 배치된다.

대표청구항 ▼

회절 광학 소자 및 복수의 구면 렌즈들을 포함하며,상기 회절 광학 소자는, 일면 상에 배치된 3 레벨 이상의 멀티 레벨 회절 구조체를 포함하며, 레이저 빔이 진행하는 경로 상에서 상기 구면 렌즈들에 앞서 제1 요소로서 배치되고, 상기 구면 렌즈들은, 평면-오목 렌즈로서 상기 회절 광학 소자에 인접한 제1 렌즈를 포함하고, 상기 구면 렌즈들은, 메니스커스 렌즈로서의 제2 렌즈, 오목-볼록 렌즈로서의 제3 렌즈, 및 볼록-볼록 렌즈로서의 제4 렌즈를 더 포함하며,상기 제1 내지 제4 렌즈는 상기 회절 광학 소자의 후단에 순차적으로 배치

발명자의 다른 특허 :

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[한국] 주사 광학장치 | 이시베 요시히로, 후지바야시 가즈오, 호시 고지
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[한국] 서로 수직한 편광으로 재생된 회절광학소자를 이용한 2차원 레이저 가공 방법 및 장치 | 공홍진, 이휘형
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[일본] DIFFRACTIVE OPTICAL DEVICE AND OPTICAL APPLIANCE HAVING THE DIFFRACTIVE OPTICAL DEVICE | NAKAI TAKEHIKO
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[일본] SCANNING OPTICAL SYSTEM | TAKEUCHI SHUICHI
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특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

이 특허와 함께 이용한 콘텐츠

[특허] 에프 세타 렌즈

저작권 관리 안내

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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