초록 ▼

i) 니켈 이온의 공급원; ii) 유효량의 티오우레아; iii) 유효량의 사카린; iv) 차아인산염 이온의 공급원; v) 하나 이상의 킬레이트화제; 및 vi) 임의로, 기타 첨가제들을 포함하는 무전해 니켈 도금욕, 및 이를 사용하여 인 함량이 높은 무전해 니켈 도금 침착물을 기판 위에 제공하는 방법.상기 인 함량이 높은 무전해 니켈 침착물은 RCA 질산 시험을 통과할 수 있으며, 이에 따라 상기 인 함량이 높은 니켈 침착물을 그 위에 갖는 기판을 농축 니켈산에 30초 동안 침지시켜, 흑색 또는 회색으로 변하지 않은 침착물은 RCA

i) 니켈 이온의 공급원; ii) 유효량의 티오우레아; iii) 유효량의 사카린; iv) 차아인산염 이온의 공급원; v) 하나 이상의 킬레이트화제; 및 vi) 임의로, 기타 첨가제들을 포함하는 무전해 니켈 도금욕, 및 이를 사용하여 인 함량이 높은 무전해 니켈 도금 침착물을 기판 위에 제공하는 방법.상기 인 함량이 높은 무전해 니켈 침착물은 RCA 질산 시험을 통과할 수 있으며, 이에 따라 상기 인 함량이 높은 니켈 침착물을 그 위에 갖는 기판을 농축 니켈산에 30초 동안 침지시켜, 흑색 또는 회색으로 변하지 않은 침착물은 RCA 질산 시험을 통과한 것으로 간주된다.

대표청구항 ▼

무전해 니켈 도금 침착물을 기판 위에 제공하는 방법으로서, 상기 방법은a) 상기 기판을 그 위에 무전해 니켈을 허용하도록 준비하는 단계;b) 상기 기판을i) 니켈 이온의 공급원 및 티오우레아가 반응할 수 있도록 일정 시간 동안 니켈 이온의 공급원과 티오우레아를 사전 혼합하고, ii) 사전 혼합물을 물로 희석하고, 이 후iii) 반응된 사전 혼합물에 하기 성분:(a) 사카린;(b) 차아인산염 이온의 공급원;(c) 하나 이상의 킬레이트화제; 및(d) 임의로, 기타 첨가제들을 첨가하여 제조된 무전해 니켈 도금욕에 침지하는 단계를 포함하며

무전해 니켈 도금 침착물을 기판 위에 제공하는 방법으로서, 상기 방법은a) 상기 기판을 그 위에 무전해 니켈을 허용하도록 준비하는 단계;b) 상기 기판을i) 니켈 이온의 공급원 및 티오우레아가 반응할 수 있도록 일정 시간 동안 니켈 이온의 공급원과 티오우레아를 사전 혼합하고, ii) 사전 혼합물을 물로 희석하고, 이 후iii) 반응된 사전 혼합물에 하기 성분:(a) 사카린;(b) 차아인산염 이온의 공급원;(c) 하나 이상의 킬레이트화제; 및(d) 임의로, 기타 첨가제들을 첨가하여 제조된 무전해 니켈 도금욕에 침지하는 단계를 포함하며, 여기서, 상기 무전해 니켈 도금 침착물은 RCA 질산 시험을 통과할 수 있으며, 이때 상기 무전해 니켈 도금 침착물을 그 위에 갖는 기판을 농축 니켈산에 30초 동안 침지시켜, 흑색 또는 회색으로 변하지 않은 침착물은 RCA 질산 시험을 통과한 것으로 간주되고, 상기 무전해 니켈 도금 침착물은 상기 침착물 중에 9 중량% 이상의 인을 함유하는, 방법.