레르 리키드 쏘시에떼 아노님 뿌르 레?드 에렉스뿔라따시옹 데 프로세데 조르즈 클로드 / 프랑스 파리 (우편번호 *****) 께 도르세 **번지
대리인 / 주소
특허법인코리아나
심사청구여부
있음 (2017-12-07)
심사진행상태
등록결정(일반)
법적상태
등록
초록
할라이드 교환 반응을 이용하여 디요오도실란 또는 펜타요오도디실란과 같은 Si-H 함유 요오도실란을 합성하는 방법이 기술된다.
대표청구항▼
하기 화학식을 갖는 Si-H 함유 요오도실란을 합성하는 방법으로서,화학식 SiwHxRyXz 또는 N(SiHaRbXc)3 또는 (SiHmRnXo)2-CH2(여기서, X는 Cl 또는 Br이며, w, x, y, z, a, b, c, m, n, 및 o는 하기에서 정의된 바와 같음)를 갖는 할로실란 반응물을 화학식 MI(여기서, M은 Li, Na, K, Rb, 또는 Cs임)를 갖는 알칼리 금속 할라이드 반응물과 반응시켜 하기 화학식 (1), 화학식 (2) 또는 화학식 (3)을 갖는 MX의 혼합물을 생성하는 단계; 및상기 혼합물로부터 화학식
하기 화학식을 갖는 Si-H 함유 요오도실란을 합성하는 방법으로서,화학식 SiwHxRyXz 또는 N(SiHaRbXc)3 또는 (SiHmRnXo)2-CH2(여기서, X는 Cl 또는 Br이며, w, x, y, z, a, b, c, m, n, 및 o는 하기에서 정의된 바와 같음)를 갖는 할로실란 반응물을 화학식 MI(여기서, M은 Li, Na, K, Rb, 또는 Cs임)를 갖는 알칼리 금속 할라이드 반응물과 반응시켜 하기 화학식 (1), 화학식 (2) 또는 화학식 (3)을 갖는 MX의 혼합물을 생성하는 단계; 및상기 혼합물로부터 화학식 SiwHxRyIz, N(SiHaRbIc)3, 또는 (SiHmRnIo)2-CH2를 갖는 Si-H 함유 요오도실란을 분리하는 단계를 포함하는 방법:[화학식 1]SiwHxRyIz[화학식 2]N(SiHaRbIc)3 또는[화학식 3](SiHmRnIo)2-CH2(상기 식에서, w는 1 내지 3이며, x+y+z는 2w+2이며, x는 1 내지 2w+1이며, y는 0 내지 2w+1이며, z는 1 내지 2w+1이며, 각 a는 독립적으로, 0 내지 3이며, 각 b는 독립적으로, 0 내지 3이며, 각 c는 독립적으로, 0 내지 3이며, a+b+c는 3이며, 단, 적어도 하나의 a 및 적어도 하나의 c는 1이며, 각 m은 독립적으로, 0 내지 3이며, 각 n은 독립적으로, 0 내지 3이며, 각 o는 독립적으로, 0 내지 3이며, m+n+o는 3이며, 단, 적어도 하나의 m 및 적어도 하나의 o는 1이며, 각 R은 독립적으로, C1 내지 C12 히드로카르빌 기, Cl, Br, 또는 ER'3 기이며, 여기서, 각 E는 독립적으로, Si 또는 Ge이며, 각 R'는 독립적으로, H 또는 C1 내지 C12 히드로카르빌 기임).
[미국]
AMINO(IODO)SILANE PRECURSORS FOR ALD/CVD SILICON-CONTAINING FILM APPLICATIONS AND METHODS OF USING THE SAME |
KUCHENBEISER, Glenn,
LEFEVRE, Bastien
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