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연합인증

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할라이드 교환 반응을 통한 Si-H 함유 요오도실란의 제조 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C01B-033/107
  • C07F-007/12
  • C23C-016/30
  • C23C-016/448
  • C23C-016/455
출원번호 10-2017-7035366 (2017-12-07)
공개번호 10-2017-0141261 (2017-12-22)
등록번호 10-2038215-0000 (2019-10-23)
우선권정보 미국(US) 62/338,882 (2016-05-19)
국제출원번호 PCT/US2017/033620 (2017-05-19)
국제공개번호 WO 2017/201456 (2017-11-23)
번역문제출일자 2017-12-07
DOI http://doi.org/10.8080/1020177035366
발명자 / 주소
  • 리터, 콜 / 미합중국 ***** 펜실베니아주 이스톤 존. 스트리트 ****
  • 아이토브, 제나디 / 미합중국 ***** 뉴저지 플레밍턴 쿠퍼 페니 로드 **
  • 칸델왈, 매니쉬 / 미합중국 ***** 뉴저지 서머싯 지라드 에비뉴 ***
  • 지라드, 장-마크 / 프랑스 베르사유 에프-***** 몽바우롱 뤼 **
  • 쿠첸베이저, 글렌 / 미합중국 ***** 델라웨어주 뉴어크 뉴브룩 로드 **
  • 케리건, 씬 / 미합중국 ***** 뉴 저지주 프리스턴 레이크뷰 에비뉴 *
  • 장, 팽 / 미합중국 ***** 뉴저지 몬트베일 털쿠일 로드 **
출원인 / 주소
  • 레르 리키드 쏘시에떼 아노님 뿌르 레?드 에렉스뿔라따시옹 데 프로세데 조르즈 클로드 / 프랑스 파리 (우편번호 *****) 께 도르세 **번지
대리인 / 주소
  • 특허법인코리아나
심사청구여부 있음 (2017-12-07)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

할라이드 교환 반응을 이용하여 디요오도실란 또는 펜타요오도디실란과 같은 Si-H 함유 요오도실란을 합성하는 방법이 기술된다.

대표청구항

하기 화학식을 갖는 Si-H 함유 요오도실란을 합성하는 방법으로서,화학식 SiwHxRyXz 또는 N(SiHaRbXc)3 또는 (SiHmRnXo)2-CH2(여기서, X는 Cl 또는 Br이며, w, x, y, z, a, b, c, m, n, 및 o는 하기에서 정의된 바와 같음)를 갖는 할로실란 반응물을 화학식 MI(여기서, M은 Li, Na, K, Rb, 또는 Cs임)를 갖는 알칼리 금속 할라이드 반응물과 반응시켜 하기 화학식 (1), 화학식 (2) 또는 화학식 (3)을 갖는 MX의 혼합물을 생성하는 단계; 및상기 혼합물로부터 화학식

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 저온 SIN 증착 방법 | 파란즈페, 아지트 피., 장,강찬, 맥도우걸, 브렌단, 버렙, 웨인, 파텐, 미셸, 골드만, 알란, 내그, 솜나쓰
  2. [미국] AMINO(IODO)SILANE PRECURSORS FOR ALD/CVD SILICON-CONTAINING FILM APPLICATIONS AND METHODS OF USING THE SAME | KUCHENBEISER, Glenn, LEFEVRE, Bastien

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 디아이오도실란의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 조성물 | 이창엽, 고승환, 김성민, 박성호, 오은주, 이장준
  2. [한국] 할로실란 화합물의 제조 방법 | 티비에르지 클리퍼슨, 한센 로비 더블유 제이 엠, 토레스 에두아르도, 바우콤 크리스토퍼 케이, 버카트 브라이언 엠
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