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이산화타이타늄 쉘이 형성된 중공 실리카 입자의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C01B-033/18
  • C01G-023/053
출원번호 10-2018-0012095 (2018-01-31)
공개번호 10-2019-0092850 (2019-08-08)
등록번호 10-2087011-0000 (2020-03-04)
DOI http://doi.org/10.8080/1020180012095
발명자 / 주소
  • 이성의 / 경기도 성남시 분당구 중앙공원로 **, ***동 ***호 (서현동, 시범단지한신아파트)
  • 이영철 / 경기도 수원시 권선구 입북로 **, ***동 ***호 (입북동, 서수원 자이아파트)
  • 노기연 / 부산광역시 부산진구 전포대로***번길 ** (전포동)
  • 이지선 / 울산광역시 동구 봉수로 ***, ***동 ***호 (서부동, 서부성원상떼빌)
출원인 / 주소
  • 한국산업기술대학교산학협력단 / 경기도 시흥시 산기대학로 *** (정왕동, 한국산업기술대학교)
대리인 / 주소
  • 특허법인 무한
심사청구여부 있음 (2018-01-31)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 이산화타이타늄 쉘이 형성된 중공 실리카 입자의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 무기 주형 입자를 준비하는 단계, 상기 무기 주형 입자 표면에 실리콘 및 실리카를 포함하는 제1 쉘을 형성하는 단계, 상기 무기 주형 입자를 제거하여 중공 실리카 입자를 형성하는 단계 및 상기 중공 실리카 입자 표면에 이산화타이타늄을 포함하는 제2 쉘을 형성하는 단계를 포함하는 중공 실리카 입자의 제조방법에 관한 것이다.

대표청구항

무기 주형 입자를 준비하는 단계;상기 무기 주형 입자 표면에 실리콘 및 실리카를 포함하는 제1 쉘을 형성하는 단계;상기 무기 주형 입자를 제거하여 중공 실리카 입자를 형성하는 단계; 및상기 중공 실리카 입자 표면에 이산화타이타늄을 포함하는 제2 쉘을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 실리콘 대 상기 실리카의 혼합 질량비는 1 : 0.01 내지 1 : 0.5이고,상기 제2 쉘을 형성하는 단계는, 이산화타이타늄 전구체와 알코올을 포함하는 반응 용매를 제조하고,상기 반응 용매로 드롭핑(dropping)법, 분사법, 도포법 및 침지법으로 이

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [일본] SILICA-BASED HOLLOW PARTICLE DISPERSION MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND SILICA-BASED HOLLOW PARTICLE | MURAKAMI AKIRA, KOBAYASHI KUNPEI, ERIYAMA YUUICHI
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