최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2018-0015112 (2018-02-07) | |
공개번호 | 10-2019-0004635 (2019-01-14) | |
등록번호 | 10-2171476-0000 (2020-10-23) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020170084766 (2017-07-04) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180015112 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2018-02-07) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명에 따른 개시제를 이용한 화학 기상 증착(Initiated Chemical Vapor Deposition, iCVD)의 다층 시스템은 내부에 기판을 수용할 수 있는 복수의 챔버; 상기 복수의 챔버 각각에 단량체를 주입하는 복수의 단량체 주입부; 상기 복수의 챔버 각각에 개시제를 주입하는 복수의 개시제 주입부; 상기 단량체 및 상기 개시제를 이용하여 상기 기판에 박막을 형성하기 위해 상기 복수 개의 챔버 각각의 온도를 조절하는 복수의 온도 조절부를 포함할 수 있다.
내부에 기판을 수용할 수 있는 챔버가 수직으로 적층된 복수의 챔버;상기 복수의 챔버 각각에 단량체를 주입하는 복수의 단량체 주입부;상기 복수의 챔버 각각에 개시제를 주입하는 복수의 개시제 주입부;상기 단량체 및 상기 개시제를 이용하여 상기 기판에 박막을 형성하기 위해 상기 복수 개의 챔버 각각의 온도를 조절하는 복수의 온도 조절부;자유 라디칼(free radical)을 형성하기 위하여 상기 개시제를 열분해하는 가열부; 및상기 자유 라디칼과 상기 단량체를 상기 기판에 흡착시키기 위해 상기 복수의 챔버 각각의 적어도 일부분의 온도를 낮
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.