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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2018-0027592 (2018-03-08) | |
| 공개번호 | 10-2019-0106307 (2019-09-18) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020180027592 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
| 법적상태 | 거절 |
본 발명의 제상 장치는, 증발기의 하측에 설치되며 상기 증발기에 착상되는 성에를 제거하도록 열을 발생시키는 열원; 및 내부에 충전된 작동액의 순환 유로를 형성하고 상기 열원에 의해 가열된 작동액의 열을 상기 증발기의 냉각관에 전달하도록 상기 냉각관에 인접하게 배치되는 히트 파이프를 포함하고, 상기 열원은 온도가 상승함에 따라 저항이 증가하는 특성을 갖는 PTC 서미스터를 포함하고, 제상 동작 개시 후 상기 PTC 서미스터의 소모 전력이 기준 전력 이하가 되면 상기 제상 동작이 종료된다.
증발기의 하측에 설치되며, 상기 증발기에 착상되는 성에를 제거하도록 열을 발생시키는 열원; 및내부에 충전된 작동액의 순환 유로를 형성하고, 상기 열원에 의해 가열된 작동액의 열을 상기 증발기의 냉각관에 전달하도록 상기 냉각관에 인접하게 배치되는 히트 파이프를 포함하고,상기 열원은 온도가 상승함에 따라 저항이 증가하는 특성을 갖는 PTC 서미스터를 포함하고, 제상 동작 개시 후 상기 PTC 서미스터의 소모 전력이 기준 전력 이하가 되면 상기 제상 동작이 종료되는 것을 특징으로 하는 제상 장치.
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