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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0067579 (2018-06-12) | |
등록번호 | 10-2036071-0000 (2019-10-18) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180067579 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-06-12) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 냉각 대상에 부착되어 중적외선을 흡수 및 복사하는 복사 냉각 구조는, 제1 영역의 중적외선을 흡수 및 복사하는 적어도 하나의 유전체층, 그리고 상기 제1 영역보다 짧은 파장을 포함하는 제2 영역의 중적외선을 흡수 및 복사하는 적어도 하나의 금속 박막층를 포함하되, 상기 금속 박막층의 두께는 상기 금속 박막층이 가시광을 투과하도록 결정될 수 있다.
냉각 대상에 부착되어 중적외선을 흡수 및 복사하는 복사 냉각 구조에 있어서,제1 영역의 중적외선을 흡수 및 복사하는 적어도 하나의 유전체층; 그리고상기 제1 영역보다 짧은 파장을 포함하는 제2 영역의 중적외선을 흡수 및 복사하는 적어도 하나의 금속 박막층을 포함하되,상기 금속 박막층의 두께는 상기 금속 박막층이 가시광을 투과하도록 결정되는 복사 냉각 구조.
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