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[한국특허] 수 중 질산성 질소의 처리 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C02F-001/467
  • C02F-001/461
  • C02F-001/58
  • C02F-101/16
출원번호 10-2018-0091859 (2018-08-07)
등록번호 10-2074447-0000 (2020-01-31)
DOI http://doi.org/10.8080/1020180091859
발명자 / 주소
  • 박규원 / 부산광역시 남구 분포로 ***, ***동 ***호 (용호동,엘지메트로시티아파트)
  • 김성태 / 충청남도 아산시 남부로 ***, ***동 ***호 (풍기동,동일하이빌아파트)
  • 권경안 / 경기도 하남시 위례중앙로 ***, ****동 ***호(학암동, 위례신도시 엠코타운 플로리체)
  • 김대원 / 충청남도 아산시 모종로 **, ***동 ****호(모종동, 모종*차한성필하우스)
출원인 / 주소
  • (주) 테크로스 / 서울특별시 강남구 삼성로 ***, *층 (삼성동, 부방빌딩)
대리인 / 주소
  • 특허법인세신
심사청구여부 있음 (2018-08-07)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 수 중 질산성 질소의 처리 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 탈질 미생물이나 화학물질을 사용하지 않고, 전기분해를 이용하여 폐수, 하수 또는 정수 내의 질산성 질소를 처리하는 방법에 관한 것이다. 바람직하게는, 본 발명의 수 중 질산성 질소의 처리방법은 전기분해장치를 이용한 수 중 질산성 질소 처리 방법으로서, 음극 표면에서 질산성 질소의 환원 반응으로 질소가스 또는 암모늄 이온이 생성되고, 상기 암모늄 이온은 양극에서 발생된 염소가스에 의해 질소가스로 환원되는 것을 특징으로 한다.

대표청구항

전기분해장치를 이용한 수 중 질산성 질소 처리방법으로서,음극 표면에서 질산성 질소의 환원 반응으로 질소가스 또는 암모늄 이온이 생성되고, 상기 암모늄 이온은 양극에서 발생된 염소가스에 의해 질소가스로 환원되고,상기 음극은 판형, 메쉬형 또는 타공형 티타늄 기판 및 상기 기판 위에 형성된 나노구조로 이루어지고, 상기 나노구조는 상기 기판을 HF 및 NH4F를 포함하는 전해액에 침지시키고, 10 내지 150V의 전압을 1 내지 3시간 동안 인가하여 형성한 것을 특징으로 하는, 수 중 질산성 질소 처리 방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 금속 혼합 산화물 전극 및 그의 제조방법 | 전치중, 김종성, 이남희, 권병기, 김광수
  2. [한국] 다중벽 탄소나노튜브 음극의 전자 방출에 의한 직접 환원 공정을 이용한 전기 화학적 폐수 탈질 방법, 및 그 탈질 장치 | 안길홍, 안덕호, 김용서
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