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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0107375 (2018-09-07) | |
공개번호 | 10-2019-0027767 (2019-03-15) | |
등록번호 | 10-2197880-0000 (2020-12-28) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020170114598 (2017-09-07);대한민국(KR) 1020170114599 (2017-09-07) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180107375 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-03-25) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 상단면을 구비한 요철구조를 갖는 집전체; 상기 집전체에서 요철구조의 상단면을 제외한 부분의 외측에 위치된 리튬 금속층; 상기 리튬 금속층의 외측에 위치된 전자 비전도성 보호층; 및 상기 집전체의 요철구조의 상단면, 또는 상기 집전체의 요철구조의 상단면과 상기 리튬 금속층의 상측과 상기 전자 비전도성 보호층의 상측에 위치된 리튬이온 격리층을 포함하고, 상기 전자 비전도성 보호층이 무공층 및 그 외측에 위치된 고분자 다공성층을 포함하는 리튬 금속 전극, 및 이를 포함하는 리튬 이차전지, 및 플렉서블 이차 전지를 제공한다.
상단면을 구비한 요철구조를 갖는 집전체; 상기 집전체에서 요철구조의 상단면을 제외한 부분의 외측에 위치된 리튬 금속층;상기 리튬 금속층의 외측에 위치된 전자 비전도성 보호층; 및상기 집전체의 요철구조의 상단면, 또는 상기 집전체의 요철구조의 상단면과 상기 리튬 금속층의 상측과 상기 전자 비전도성 보호층의 상측에 위치된 리튬이온 격리층을 포함하고,상기 전자 비전도성 보호층이 리튬 이온을 전달하며 기공이 없는 무공층 및 그 외측에 위치된 고분자 다공성층을 포함하며, 상기 리튬 이온 격리층에 의해 리튬 덴드라이트가 수직으로 성장하는 것을
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