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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0119486 (2018-10-08) | |
공개번호 | 10-2020-0039909 (2020-04-17) | |
등록번호 | 10-2142850-0000 (2020-08-04) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180119486 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-10-08) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 금 나노입자의 합성 방법을 제공하는 것이다. 보다 상세하게는, 시금 전구체 용액에 제1환원제를 첨가하여 시드입자 용액을 제조하는 단계(S1); 상기 S1 단계의 시드입자 용액에 제2환원제를 첨가하여, 금 나노입자를 제조하는 단계(S2); 상기 S2 단계에서 제조된 금 나노입자에 시트르산삼소듐 용액을 첨가하고 교반하여 금 나노입자의 표면을 코팅하는 단계(S3); 및 상기 S3 단계에서 표면이 코팅된 금 나노입자를 3000 rcf 내지 6000 rcf로 원심분리하는 단계(S4)를 포함하는 금 나노입자의 합성 방법에 관한 것이
하기 단계를 포함하는 금 나노입자의 합성방법:염화금산(HAuCl4)을 포함하는 금 전구체 용액에, 제1환원제로서 시트르산삼소듐(trisodium citrate)을 첨가하여 시드입자 용액을 제조하는 단계(S1);상기 S1 단계의 시드입자 용액에 제2환원제로서 메르캅토석시네이트(mercaptosuccinate) 용액을 첨가하여, 금 나노입자를 제조하는 단계(S2);상기 S2 단계에서 제조된 금 나노입자에 시트르산삼소듐 용액을 첨가하고 교반하여 금 나노입자의 표면을 코팅하는 단계(S3); 및상기 S3 단계에서 표면이 코팅된 금 나노입자를
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