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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0125298 (2018-10-19) | |
공개번호 | 10-2018-0117583 (2018-10-29) | |
등록번호 | 10-1927414-0000 (2018-12-04) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180125298 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-10-19) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 이차전지용 음극활물질, 이차전지용 도전성 조성물, 이를 포함하는 음극재료, 이를 포함하는 음극구조체 및 이차전지, 및 이들의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 실리콘 입자; 및 상기 실리콘 입자의 표면에 형성된 비정질 표면층;을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 음극 구조는 실리콘 입자와 탄소 또는 리튬 이온 고체 전해질과의 복합체로 형성되어 있고, 실리콘 입자의 산소 함유량이 낮아 실리콘 입자의 응집이 억제되어 있기 때문에, 상기 음극 구조를 음극에 사용하는 경우, 리튬 2차 전지 등의 축전 디바이스는
실리콘 물질을 불활성 분위기 하에서 건식 분쇄하여 건식 분쇄물을 마련하는 건식 분쇄 공정; 및상기 건식 분쇄물, 첨가물질 및 첨가제를 용매에 투입한 후, 습식 분쇄 및 분산시켜 슬러리를 제조하되 상기 실리콘 물질의 입경이 5㎚ 이상 200㎚ 이하가 되도록 하는 습식 분쇄 및 분산 공정을 포함하며,상기 첨가물질로 리튬이온 고체전해질 입자가 사용되는, 음극활물질의 제조방법.
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