[특허]반도체 증착공정용 프로세스 챔버의 제조방법 및 이에 의해 제조된 프로세스 챔버

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반도체 증착공정용 프로세스 챔버의 제조방법 및 이에 의해 제조된 프로세스 챔버 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/67 C23C-016/455 H01L-021/02
출원번호	10-2018-0157915 (2018-12-10)
등록번호	10-2118450-0000 (2020-05-28)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020180157915
발명자 / 주소	김훈식 / 경기도 안산시 상록구 반석로 동 *호 (본오동,신안차아파트) 정나겸 / 경기도 평택시 안중읍 현덕로 * 신창아파트 *동 호 장관섭 / 서울특별시 강서구 등촌로 , 동 호 (등촌동, 등촌동아이파크) 장기범 / 충남 아산시 둔포면 아산밸리중앙로 -* 이지더원 *-**
출원인 / 주소	주식회사 영광와이케이엠씨 / 충남 아산시 둔포면 아산밸리 중앙로 ***
대리인 / 주소	특허법인 이노
심사청구여부	있음 (2018-12-10)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록 ▼

본 발명은 본 발명은 반도체 증착공정에 구성되어 진공상태로 세팅되는 프로세스 챔버에 관한 것으로서,가이드블럭에 탑재되어 고정된 몸체가공소재를 가공하여 수용공간을 포함한 세부구성을 갖는 몸체부를 형성하는 몸체부제조공정; 및 상기 가이드블럭에 탑재되어 고정된 상판가공소재를 가공하여 상기 몸체가공소재의 수용공간을 밀폐하는 상판부를 제조하는 상판부제조공정을 포함함으로써, 상기 프로세스 챔버를 제조함에 있어서, 상기 가이드블럭에 의해 기준면 확보는 물론 평탄화 관리를 실시함으로써, 상기 프로세스 챔버의 정밀도가 향상되고, 이로 인해 진공확보

대표청구항 ▼

반도체 증착공정에 구성되어 플라즈마를 이용하여 수용된 유리기판을 증착하는 반도체 증착공정용 프로세스 챔버의 제조방법으로서, 가이드블럭에 탑재되어 고정되는 몸체가공소재를 가공하여 상기 몸체가공소재의 수용공간을 포함하는 세부구성을 갖는 몸체부를 가공하는 몸체부제조공정; 및가이드블럭에 탑재되어 고정되는 상판가공소재를 가공하여 상기 몸체가공소재의 수용공간을 밀폐하는 상판부를 형성하는 상판부제조공정을 포함하며, 상기 몸체부는 단일체이고, 상기 몸체가공소재에 형성된 상기 수용공간은 원형의 수용공간이고,상기 상판부제조공정은;상기 가이드블럭에 상판가공소재를 고정하고 상기 상판가공소재의 하면을 평탄화하는 하면평탄화단계와; 상기 가이드블럭에 상기 상판가공소재를 뒤집어 고정하고 상기 상판가공소재의 상면 및 측면을 중삭 및 정삭하는 상면가공단계; 상기 상면가공단계를 거친 상판가공소재의 상면을 마감처리하여 튜브설치홈 및 단차부를 포함하는 세부구성을 형성하는 상면마감단계; 상기 가이드블럭에 상기 상판가공소재를 뒤집어 고정하고 상기 상판가공소재의 하면을 마감처리하는 하면마감단계; 및상기 상면마감단계에서 형성된 튜브설치홈에 냉각튜브를 삽입하여 냉각라인을 구성하는 튜브배치단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 증착공정용 프로세스 챔버의 제조방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

[한국] 진공챔버 가공용 고정지그 | 이종량
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[한국] 반도체장치 제조용 챔버 조립체 | 정재욱
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[일본] VACUUM CHAMBER AND ITS MANUFACTURING METHOD | SUGANO HIROTO, MATSUURA HIROSHI, OKAMOTO HIDEJI, MATSUMOTO KOICHI
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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