본 발명은 콘택트렌즈 제조방법에 관한 것으로, HEMA(2-hydroxyethyl methacrylate)와친수성 모노머인 PEGMEMA(poly(ethylene glycol) methyl ether methacrylate)를 포함하여 중합하는 것이며, 또한상기 콘택트렌즈 제조방법은 컬러 코팅을 위해 부식판을 사용하는 것으로, 따라서 본 발명인 콘택트렌즈 제조방법은 기본적인 콘택트렌즈 소재인 HEMA에 PEGMEMA를 첨가하여 함수율 및 습윤성을 보완하고, 2,4-dihydroxybenzophenone을 첨가하여 자외선 차단 기능성
본 발명은 콘택트렌즈 제조방법에 관한 것으로, HEMA(2-hydroxyethyl methacrylate)와친수성 모노머인 PEGMEMA(poly(ethylene glycol) methyl ether methacrylate)를 포함하여 중합하는 것이며, 또한상기 콘택트렌즈 제조방법은 컬러 코팅을 위해 부식판을 사용하는 것으로, 따라서 본 발명인 콘택트렌즈 제조방법은 기본적인 콘택트렌즈 소재인 HEMA에 PEGMEMA를 첨가하여 함수율 및 습윤성을 보완하고, 2,4-dihydroxybenzophenone을 첨가하여 자외선 차단 기능성을 보완하며, ITO 나노입자(nanoparticles)를 첨가하여 전자파 차단 기능성을 보완함으로써, 고습윤성, 고함수율, 자외선 차단, 전자파 차폐기능을 가지는 고기능성 콘택트렌즈를 제조할 수 있고, PEGMEMA, 2,4-dihydroxybenzophenone 그리고 ITO 나노입자를 활용하여 스마트폰 및 전자기기의 사용이 증가함에 따라 필요한 물리적 특성을 보완할 수 있는 소재로 다양하게 다른 분야에서 사용될 수 있는 등의 현저한 효과가 있다.또한, 본발명은 세라믹 재질 부식판을 제조중 사용하여, 품질이 우수하며 특히 표면에 결함이 없으며, 섬세한 칼라 모양이 구현되는 현저한 효과가 있다.
HEMA(2-hydroxyethyl methacrylate)84.64~87.19중량%, 자극저하제로 PVP(polyvinylpyrrolidone) 2.61중량%, 교차결합제로 EGDMA(ethylene glycol dimethacrylate)0.44중량% , 중합시 개시제로 AIBN(azobis iso butyronitrile)0.17중량%, 친수성 모노머인 PEGMEMA(poly(ethylene glycol) methyl ether methacrylate)9.04중량%, 자외선 차단제로 DB(2,4-dihydroxybenzophenone)0.5~3.00중량%, 전자파 차단제로 ITO(Indium Tin Oxide) 나노입자0.05~0.10중량%를 컨텍트 렌즈 성형 재료로 첨가하여 공중합하여 콘택트렌즈를 제조하되, 부식판을 사용하는 콘택트렌즈 제조방법에 있어서,상기 콘택트렌즈 성형 재료에 ITO 나노입자가 포함되고,콘택트렌즈에 패드에 묻혀 문양인쇄를 위해 첨가되는 안료,염료 혼합체 속에도 ITO 나노입자가 포함되어 있으므로, 상기 부식판은 상기 콘택트렌즈 성형 재료및 안료,염료 혼합체 속에 각각 포함된 ITO 나노입자에 조화되게 세라믹 재질인 알루미나 입자를 압착성형한 것이며,상기 부식판은 콘택트 렌즈 제조를 위한 에칭방법으로서, 섬세한 칼라 디자인 구현을 위한 레이저 부식 방법을 사용하는 것을 특징으로 하는 콘택트렌즈 제조방법.
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