(i) 적어도 하나의 기능성 활성제; 및 (ii) 상기 기능성 활성제를 가용화하기에 효과적인 양으로 존재하는, 화학식 I의 구조를 갖는 적어도 하나의 가용화 화합물을 포함하는 광 차단 국소 조성물이며,여기서 R은 C5-C10 시클로알킬 또는 선형 또는 분지형 알킬시클로알킬이고, 여기서 고리 크기는 C5-C7이고; R1,R2, 및 R3은 각각 독립적으로 H, 및 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬로 이루어진 군으로부터 선택되며, 단 R1,R2, R3 중 적어도 2개는 H이고; 여기서 상기 가용화 화합물은 상기 기능성 활성제를 가용화하기
(i) 적어도 하나의 기능성 활성제; 및 (ii) 상기 기능성 활성제를 가용화하기에 효과적인 양으로 존재하는, 화학식 I의 구조를 갖는 적어도 하나의 가용화 화합물을 포함하는 광 차단 국소 조성물이며,여기서 R은 C5-C10 시클로알킬 또는 선형 또는 분지형 알킬시클로알킬이고, 여기서 고리 크기는 C5-C7이고; R1,R2, 및 R3은 각각 독립적으로 H, 및 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬로 이루어진 군으로부터 선택되며, 단 R1,R2, R3 중 적어도 2개는 H이고; 여기서 상기 가용화 화합물은 상기 기능성 활성제를 가용화하기에 효과적인 양으로 존재하는 것인 광 차단 국소 조성물.또한 피부, 입술, 손발톱, 모발, 귀, 속눈썹, 눈썹 및/또는 두피를 효과적인 양의 조성물로 처리하기 위한 방법이 개시된다.
대표청구항▼
i. 자외선 (UV) A 및/또는 UVB 활성제를 함유하는 적어도 하나의 선스크린 활성제; 및ii. 화학식 I을 갖는 적어도 하나의 가용화 화합물을 포함하는 광 차단 국소 조성물이며,여기서 R은 C5-C10 시클로알킬 또는 선형 또는 분지형 알킬시클로알킬이고, 여기서 고리 크기는 C5-C7이고; R1,R2, 및 R3은 각각 독립적으로 H, 및 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬로 이루어진 군으로부터 선택되며, 단 R1,R2, R3 중 적어도 2개는 H이고;여기서 상기 화합물은 상기 선스크린 활성제를 가용화하기에 효과적인 양으로 존재하
i. 자외선 (UV) A 및/또는 UVB 활성제를 함유하는 적어도 하나의 선스크린 활성제; 및ii. 화학식 I을 갖는 적어도 하나의 가용화 화합물을 포함하는 광 차단 국소 조성물이며,여기서 R은 C5-C10 시클로알킬 또는 선형 또는 분지형 알킬시클로알킬이고, 여기서 고리 크기는 C5-C7이고; R1,R2, 및 R3은 각각 독립적으로 H, 및 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬로 이루어진 군으로부터 선택되며, 단 R1,R2, R3 중 적어도 2개는 H이고;여기서 상기 화합물은 상기 선스크린 활성제를 가용화하기에 효과적인 양으로 존재하고,상기 선스크린 활성제가 옥틸 살리실레이트; p-아미노벤조산, PEG-25PABA, 에틸헥실 디메틸 PABA, 펜틸 디메틸 PABA, 옥틸 디메틸 PABA, 아밀 디메틸 PABA, 벤조페논-1, 벤조페논-2, 벤조페논-3, 벤조페논-4, 벤조페논-5, 벤조페논-6, 벤조페논-8, 벤조페논-9, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-디-tert-펜틸페놀, 에틸-2-시아노-3,3-디페닐 아크릴레이트, 호모 멘틸 살리실레이트, 비스-에틸 헥실옥시페놀 메톡시 페닐 트리아진 (베모트리지놀), 메틸-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-세바케이트, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸페놀, 디에틸헥실 부타미도 트리아존, 4,6-비스-(옥틸티오메틸)-o-크레졸, 폴리(4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리딘 에탄올-alt-1,4-부탄디오산), 레드 페트롤리움, 옥토크릴렌, 이소아밀-p-메톡시신나메이트, 드로메트리졸, 드로메트리졸 트리실록산, 비스옥트리졸, 2,4-디-tert-부틸-6-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-페놀, 2-히드록시-4-옥틸옥시 벤조페논, 디이소프로필 메틸신나메이트, 2-(1,1-디메틸에틸)-6-[[3-(1,1-데메틸에틸)-2-히드록시-5-메틸페닐]메틸-4-메틸페닐-아크릴레이트, 멘틸 안트라닐레이트, 부틸 메톡시 디벤조일 메탄, 2-에톡시에틸 p-메톡시신나메이트, 벤질리덴 캄포르 술폰산, 디메톡시페닐-[1-(3,4)]-4,4-디메틸1,3-펜탄디온, N,N'-헥산-1,6-디일비스-[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐-프로피온아미드)], 펜타에리트리톨 테트라키스 [3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐) 프로피오네이트], 2,6-디-tert-부틸-4-[4,6-비스(옥틸티오)-1,3,5-트리아진-2-일아미노] 페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 트롤아민 살리실레이트, 디에틸아놀아민 p-메톡시신나메이트, 폴리실리콘-15, 4-메틸벤질리덴 캄포르, n-페닐-벤젠아민, 2,4,4-트리메틸펜텐의 반응 생성물, (2-에틸헥실)-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 디갈로일 트리올레에이트, 폴리아크릴아미도 메틸벤질리덴 캄포르, 글리세릴 에틸헥사노에이트 디메톡시신나메이트, 1,3-비스-[(2'-시아노-3',3'-디페닐아크릴로일)옥시]-2,2-비스-{[(2'-시아노-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-세바케이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 헥사메틸렌디아민, 에틸-4-비스(히드록시프로필) 아미노벤조에이트, 6-tert-부틸-2-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸 페놀, 3,3',3",5,5',5"-헥사-tert-부틸-α-α'-α"-(메시틸렌-2,4,6-트리일) 트리-p-크레졸, 에틸헥실 디메톡시벤질리덴 디옥소이미다졸린 프로피오네이트, N,N'-비스포르밀-N,N'-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐), 3-벤질리덴 캄포르, 테레프탈릴리덴 디캄포르 술폰산, 캄포르 벤즈알코늄 메토술페이트, 비스디술리졸 디소듐, 에토크릴렌, 페룰산, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀, 4,6-비스(도데실티오메틸)-o-크레졸, β-2-글루코피란옥시 프로필 히드록시 벤조페논, 페닐벤즈이미다졸 술폰산, 디에틸아민 히드록시 벤조일 헥실벤조에이트, 3',3'-디페닐아크릴로일)옥시]메틸}-프로판, 에틸헥실 p-메톡시신나메이트, 아보벤존, 캄포르 벤즈알코늄 메토술페이트, 페닐벤즈이미다졸 술폰산, 테레프탈리덴 디캄포르 술폰산, 벤질리덴 캄포르 술폰산, 폴리아크릴아미도메틸 벤질리덴 캄포르, 에틸헥실 메톡시신나메이트, 에틸헥실 트리아존, 디에틸헥실 부타미도 트리아존, 4-메틸벤질리덴 캄포르, 3-벤질리덴 캄포르, 메틸렌-비스-벤즈트리아졸릴 테트라메틸부틸페놀, 디소듐 페닐 디벤즈이미다졸 테트라술포네이트, 비스에틸헥실옥시페놀 메톡시페놀 트리아진, 폴리실리콘-15, 2,4,6-트리스(디이소부틸 4-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진, 이산화티타늄, 산화아연, 그의 미분화 또는 비미분화된 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 광 차단 국소 조성물.
연구과제 타임라인
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이 특허에 인용된 특허 (2)
[한국]
활성 유기 화합물의 가용화제로서 펜에틸 아릴 에스테르를함유하는 조성물 |
베르쯔 스티븐 에이취.,
드'알칸젤리스 사무엘 티.,
마카로브스키 일리아,
레렉 마크
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