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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-7009091 (2018-03-30) | |
공개번호 | 10-2018-0037311 (2018-04-11) | |
우선권정보 | 미국(US) 14/200,546 (2014-03-07) | |
국제출원번호 | PCT/US2015/018848 (2015-03-05) | |
국제공개번호 | WO 2015/134690 (2015-09-11) | |
번역문제출일자 | 2018-03-30 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020187009091 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-03-30) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
3가 크롬 전해질로부터 증착된 층을 포함하는 기판을 처리하는 방법이 개시된다. 상기 방법은, 애노드 및 (ⅰ) 3가 크롬염, 및 (ⅱ) 복합물을 포함하는 전해질에서 캐소드로서 크롬 (Ⅲ) 도금 기판을 제공하는 단계; 및 크롬 (Ⅲ) 도금 기판을 패시베이팅하기 위해 애노드와 캐소드 사이에 전류를 통하게 하는 단계를 포함한다. 기판은 크롬 (Ⅲ) 도금층이 니켈 도금층 위에 증착되도록 도금된 니켈층으로 먼저 도금될 수 있다.
3가 크롬 전해질로부터 증착된 크롬(Ⅲ) 도금층을 포함하는 기판을 처리하는 방법에 있어서,(a) (ⅰ) 3가 크롬염, (ⅱ) 복합물, 및 (iii) 수산화나트륨을 포함하는 버퍼를 포함하는 패시베이트 용액에 애노드와, 캐소드로서 상기 크롬(Ⅲ) 도금층을 포함하는 기판을 제공하는 단계; 및(b) 상기 기판상의 상기 크롬(Ⅲ) 도금층 위에 패시베이트 막을 증착하기 위해 상기 애노드와 상기 캐소드 사이에 전류를 통하게 하는 단계를 포함하고,상기 패시베이트 용액의 pH는 2.0 내지 5.0 사이에 있는, 기판 처리 방법.
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