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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-7011110 (2018-04-19) | |
공개번호 | 10-2018-0091811 (2018-08-16) | |
등록번호 | 10-2407076-0000 (2022-06-03) | |
우선권정보 | 미국(US) 14/976,498 (2015-12-21) | |
국제출원번호 | PCT/EP2016/081903 (2016-12-20) | |
국제공개번호 | WO 2017/108778 (2017-06-29) | |
번역문제출일자 | 2018-04-19 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020187011110 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-11-26) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
광대역 UV 방사선에 의해 가교가능한 조성물로서, 가교결합 이후 222 nm 내지 308 nm에서 방출하는 UV 엑시머 레이저에 의해 콜드 어블레이션이 가능하고, 조성물은 포함되는 수성 염기에서 현상가능한 네거티브 톤 레지스트를 포함하고, 또한 약220 nm 내지 약 310 nm의 범위에서 강하게 자외선 방사선을 흡수하는 공액 아릴 첨가제를 포함한다. 본 발명은 또한 단계 a), b) 및 c)를 포함하는 방법을 포괄한다. a) 기판 상에 제1항의 조성물을 코팅하는 단계; b) 광대역 UV 노출로의 조사에 의해 전체 코팅을 가교결합시
하기 단계 a), b) 및 c)를 포함하는 방법:a) 조성물을 기판 상에 코팅하는 단계로서, 상기 조성물이 광대역 조사에 노출된 부분에서 222 nm 내지 308 nm에서 방출되는 UV 엑시머 레이저에 의한 후속 콜드 레이저 어블레이션에 대해서도 감수성인, 수성 염기로 현상가능한 네거티브 톤 광대역 UV 레지스트를 위한 조성물이며, 하기 유형 a1) 및 b1)의 성분을 포함하는 것인 단계: a1) 수성 염기로 현상가능한 네거티브 톤 광대역 UV 레지스트 거동을 부여하기 위한 성분으로서, i) 수지가 수성 염기에서 용해되도록 페놀계
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