가야쿠보 다이스케
/ 일본 와카야마켕 와카야마시 미나토 ****반치 카오카부시키가이샤 겡큐쇼 나이
가와시모 히로카즈
/ 일본 와카야마켕 와카야마시 미나토 ****반치 카오카부시키가이샤 겡큐쇼 나이
출원인 / 주소
카오카부시키가이샤 / 일본국도꾜도쥬오쿠니혼바시가야바쵸*쵸메**반**고
대리인 / 주소
특허법인코리아나
심사진행상태
등록결정(일반)
법적상태
공개
초록▼
플럭스 잔사의 세정에 바람직한 플럭스용 세정제 조성물의 제공. 본 개시는, 일 실시형태에 있어서, 하기 식 (I) 로 나타내는 화합물 (성분 A), 하기 식 (II) 로 나타내는 화합물 (성분 B), 하기 식 (III) 으로 나타내는 화합물 (성분 C), 하기 식 (IV) 로 나타내는 화합물 (성분 D), 방향족 알코올 (성분 E), 및 물 (성분 F) 을 함유하고, 성분 E 의 질량과 성분 C 및 성분 D 의 합계 질량의 비 (성분 E/(성분 C + 성분 D)) 가, 0.18 이상 0.45 이하인, 플럭스용 세정제 조성물에 관한
플럭스 잔사의 세정에 바람직한 플럭스용 세정제 조성물의 제공. 본 개시는, 일 실시형태에 있어서, 하기 식 (I) 로 나타내는 화합물 (성분 A), 하기 식 (II) 로 나타내는 화합물 (성분 B), 하기 식 (III) 으로 나타내는 화합물 (성분 C), 하기 식 (IV) 로 나타내는 화합물 (성분 D), 방향족 알코올 (성분 E), 및 물 (성분 F) 을 함유하고, 성분 E 의 질량과 성분 C 및 성분 D 의 합계 질량의 비 (성분 E/(성분 C + 성분 D)) 가, 0.18 이상 0.45 이하인, 플럭스용 세정제 조성물에 관한 것이다.R4-O-(CH2CH2O)n-H(II)R5-O-(CH2CH2O)m-H(III)R6OCH2-CH(OH)-CH2OH(IV)
대표청구항▼
하기 식 (I) 로 나타내는 화합물 (성분 A), 하기 식 (II) 로 나타내는 화합물 (성분 B), 하기 식 (III) 으로 나타내는 화합물 (성분 C), 하기 식 (IV) 로 나타내는 화합물 (성분 D), 방향족 알코올 (성분 E), 및 물 (성분 F) 을 함유하고,성분 E 의 질량과 성분 C 및 성분 D 의 합계 질량의 비 (성분 E/(성분 C + 성분 D)) 가, 0.18 이상 0.45 이하인, 플럭스용 세정제 조성물.[화학식 1]상기 식 (I) 에 있어서, R1 은 수소 원자, 메틸기, 에틸기 및 아미노에틸기로부터 선택되는
하기 식 (I) 로 나타내는 화합물 (성분 A), 하기 식 (II) 로 나타내는 화합물 (성분 B), 하기 식 (III) 으로 나타내는 화합물 (성분 C), 하기 식 (IV) 로 나타내는 화합물 (성분 D), 방향족 알코올 (성분 E), 및 물 (성분 F) 을 함유하고,성분 E 의 질량과 성분 C 및 성분 D 의 합계 질량의 비 (성분 E/(성분 C + 성분 D)) 가, 0.18 이상 0.45 이하인, 플럭스용 세정제 조성물.[화학식 1]상기 식 (I) 에 있어서, R1 은 수소 원자, 메틸기, 에틸기 및 아미노에틸기로부터 선택되는 적어도 1 종이고, R2 는 수소 원자, 하이드록시에틸기, 하이드록시프로필기, 메틸기 및 에틸기로부터 선택되는 적어도 1 종이고, R3 은 하이드록시에틸기 및 하이드록시프로필기로부터 선택되는 적어도 1 종이다.R4-O-(CH2CH2O)n-H(II)상기 식 (II) 에 있어서, R4 는 탄소수 4 이상 7 이하의 탄화수소기를 나타내고, n 은 부가 몰수로서 1 이상 5 이하의 정수이다.R5-O-(CH2CH2O)m-H(III)상기 식 (III) 에 있어서, R5 는 탄소수 8 이상 12 이하의 탄화수소기를 나타내고, m 은 평균 부가 몰수로서 4 이상 8 이하의 수이다.R6OCH2-CH(OH)-CH2OH(IV)상기 식 (IV) 에 있어서, R6 은 탄소수 6 이상 11 이하의 탄화수소기를 나타낸다.
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