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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-7022968 (2018-08-09) | |
공개번호 | 10-2018-0126454 (2018-11-27) | |
등록번호 | 10-2313925-0000 (2021-10-12) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2016-061470 (2016-03-25) | |
국제출원번호 | PCT/JP2017/008932 (2017-03-07) | |
국제공개번호 | WO 2017/163851 (2017-09-28) | |
번역문제출일자 | 2018-08-09 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020187022968 | |
발명자 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-12-20) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
반도체 웨이퍼 세정 장치에서의 과황산 용액의 교체 시간이 단축되는 과황산 용액 제조 공급 장치 및 방법이 제공된다. 제 1 전해 시스템 (20) 에 의해, 세정조 (11) 에 과황산 용액을 순환 공급하고 있는 동안에, 제 2 전해 시스템의 저류조 (41) 에 물과 황산이 도입되고, 펌프 (44), 배관 (45), 전해 셀 (50), 기액 분리기 (52), 배관 (53) 을 통하여 순환되어 과황산이 생성된다. 케미컬 체인지시에는, 제 1 전해 시스템 (20) 으로부터 배액시킨 후, 저류조 (41) 내의 과황산 용액을 저류조 (22)
웨이퍼 세정 장치에 과황산 용액을 순환 공급하는 제 1 전해 시스템을 갖는 과황산 용액 제조 공급 장치로서,그 제 1 전해 시스템과는 별개로 형성된, 과황산 용액 생성용의 제 2 전해 시스템과,제 1 전해 시스템에 대해 제 2 전해 시스템으로부터 전해 용액을 이송하는 이송 장치를 구비하고,상기 제 1 전해 시스템은, 웨이퍼 세정 장치에 순환 공급되는 과황산 용액을 저류하는 제 1 저류조와, 그 제 1 저류조로부터 공급되는 액을 전해 처리하고, 전해 처리 후의 액을 그 제 1 저류조로 되돌리는 제 1 전해 셀을 구비하고 있고,상기 제
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