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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-7027731 (2018-09-21) | |
공개번호 | 10-2018-0118710 (2018-10-31) | |
우선권정보 | 미국(US) 15/050,270 (2016-02-22) | |
국제출원번호 | PCT/US2017/018950 (2017-02-22) | |
국제공개번호 | WO 2017/147187 (2017-08-31) | |
번역문제출일자 | 2018-09-21 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020187027731 | |
발명자 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
적어도 하나의 나노입자를 제조하는 방법들은 하나 이상의 기판들을 제공하는 단계; 및 하나 이상의 기판들 상에 물질을 퇴적하는 단계를 포함한다. 물질의 적어도 하나의 부분은 적어도 하나의 부분이 기판과 물질 사이의 접착력들보다 더 큰 물질의 응집력들로 인해 하나 이상의 기판들 상에서 비딩 업하도록 가열되거나 또는 어닐링된다. 일부 방법들에서, 적어도 하나의 부분을 한정하기 위해 패턴 발생 프로세스가 수행된다. 물질에 대한 물질 재료와 하나 이상의 기판들에 대한 기판 재료의 조합은 또한 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 형상으로 비딩
적어도 하나의 나노입자를 제조하는 방법으로서, 기판을 제공하는 단계; 물질을 초기 형상으로 상기 기판 상에 직접 퇴적하는 단계; 및 상기 물질이 상기 기판 상에서 비딩 업하고 상기 물질의 상기 초기 형상으로부터 적어도 하나의 나노입자를 형성하기에 충분한 시간 동안 상기 물질을 가열하는 단계를 포함하는, 적어도 하나의 나노입자를 제조하는 방법.
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