초록

본 발명은 자체 생산된 공정유체를 이용하는 티타늄 테트라클로라이드(TiCl4) 고순도 정제장치의 플러싱 시스템에 관한 것으로서, 정제장치의 배관의 특정 영역에 막힘 등의 문제가 발생하거나 특정 장비의 보수작업이 필요한 경우에 정제장치의 가동을 중단시키지 않고 정상 운전을 하면서 보수작업을 할 수 있게 한 것이다. 특히 자체 생산된 공정유체를 이용함으로써 장비에 문제를 발생시키지 않으며 관리가 편리한 장점도 있다.

대표청구항 ▼

티타늄 테트라클로라이드 고순도 정제장치를 구성하는 차폐대상물에 연결되며 플러싱 유체가 흐르는 플러싱 배관; 상기 대상물에 연결되어 유체를 배출시키는 드레인 배관; 및상기 플러싱 배관에 연결되어 플러싱 유체를 주입하는 플러싱 유체 주입관;을 포함하여 구성되며,상기 플러싱 배관 및 상기 드레인 배관의 유로를 열어주어 플러싱 경로상의 공정유체를 드레인하는 드레인 공정과,상기 드레인 공정 이후에 상기 플러싱 유체 주입관을 통해 상기 플러싱 경로상으로 티타늄 테트라클로라이드를 주입하여 공정유체의 압력보다 높은 압력으로 유지하면서 플러싱을 하

티타늄 테트라클로라이드 고순도 정제장치를 구성하는 차폐대상물에 연결되며 플러싱 유체가 흐르는 플러싱 배관; 상기 대상물에 연결되어 유체를 배출시키는 드레인 배관; 및상기 플러싱 배관에 연결되어 플러싱 유체를 주입하는 플러싱 유체 주입관;을 포함하여 구성되며,상기 플러싱 배관 및 상기 드레인 배관의 유로를 열어주어 플러싱 경로상의 공정유체를 드레인하는 드레인 공정과,상기 드레인 공정 이후에 상기 플러싱 유체 주입관을 통해 상기 플러싱 경로상으로 티타늄 테트라클로라이드를 주입하여 공정유체의 압력보다 높은 압력으로 유지하면서 플러싱을 하는 1차 플러싱 공정과,상기 1차 플러싱 공정을 수행한 이후에, 불활성 가스를 상기 플러싱 배관으로 주입하여 플러싱을 수행하는 2차 플러싱 공정과,상기 2차 플러싱 공정을 수행한 이후에, 상기 드레인 배관에 연결된 진공펌프를 사용하여 상기 플러싱 경로상의 배관의 압력을 1kg/cm2 이하로 낮추어 준 상태에서 섭씨 100도로 가열된 불활성 가스를 주입하여 상기 차폐대상물의 내부의 잔류물질을 증발시키는 3차 플러싱 공정을 수행하며, 상기 플러싱 배관은 정제된 티타늄 테트라클로라이드가 수집된 추출탱크에 연결되고, 상기 1차 플러싱 공정에서 주입되는 상기 티타늄 테트라클로라이드는 상기 티타늄 테트라클로라이드 고순도 정제장치에서 자체 생산되어 상기 추출탱크에 수집된 것을 사용하며, 상기 차폐대상물의 이전과 이후의 공정유체 배관의 각 지점을 연결하는 바이패스 배관이 형성되는 것을 특징으로 하는 자체 생산된 공정유체를 이용하는 티타늄 테트라클로라이드 고순도 정제장치의 플러싱 시스템.