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연합인증

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나노입자의 분리 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • B03B-005/28
  • B02C-019/18
출원번호 10-2019-0010327 (2019-01-28)
공개번호 10-2020-0093171 (2020-08-05)
등록번호 10-2162972-0000 (2020-09-28)
DOI http://doi.org/10.8080/1020190010327
발명자 / 주소
  • 김우병 / 경기도 화성시 동탄반석로 ** 솔빛마을신도브래뉴아파트 ***동 ****호
  • 김도연 / 서울특별시 은평구 통일로**길 *-**
  • 정현수 / 충청남도 천안시 서북구 한들*로 **-** 천안백석*차아이파크 ***동 ***호
  • 한도형 / 충청남도 천안시 서북구 도원*길 ** 선경아파트 *동 ****호
  • 지승환 / 경상북도 구미시 봉곡로**길 *-* 영남네오빌시티*단지 ***동 ****호
  • 윤혜원 / 서울특별시 동작구 장승배기로**가길 ** 상도파크자이 ***동 ****호
  • 김륜나 / 인천광역시 계양구 주부토로***번길 ** 영남아파트 *동 ***호
  • 이진호 / 울산광역시 북구 화산로 ** 휴먼시아아파트 ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 단국대학교 천안캠퍼스 산학협력단 / 충청남도 천안시 동남구 단대로 ***, 단국대학교천안캠퍼스내(안서동)
대리인 / 주소
  • 특허법인이상
심사청구여부 있음 (2019-01-28)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 특정 사이즈로 입도 조절된 나노입자의 새로운 분리 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 10 나노미터 미만의 크기로 입도 조절된 나노입자의 새로운 분리 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 저가의 공정으로 수나노 크기와 같이 특정 사이즈로 크기가 제어된 나노입자만을 선택적으로 분리할 수 있으며, 상기 나노입자는 유기화합물을 이용한 표면코팅으로 응집과 산화에 대한 안정성을 개선시킬 수 있다.

대표청구항

실리콘 분말을 증류수에 분산시킨 후 불산을 첨가하여 실리콘의 자연산화막을 제거하는 단계;광 조사하여, 불산과 광조사에 의한 광화학적 반응에 의해 실리콘 입자 표면이 에칭되어 나노입자 크기로 작아지는 단계;상기 나노입자 크기의 실리콘 입자 표면에, 말단에 탄소 이중결합(C=C)을 갖는 화합물을 첨가하여 10 나노미터 미만의 입도를 갖는 실리콘 입자가 복합체를 형성하는 단계;상기 복합체가 용매 상에 부유하여 층 분리를 형성하는 단계; 및부유한 복합체를 분리하여 10 나노미터 미만의 입도를 갖는 실리콘 입자들을 수득하는 단계를 포함하는

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 폐실리콘 슬러지 재생장치 및 방법 | 박건
  2. [한국] 에칭방법, 에칭장치 및 반도체장치의 제조방법 | 후지이신지
  3. [한국] 아민-알데히드 수지 및 분리 공정에서의 그 용도 | 라이트, 제임스, 아더, 리사 엠., 하트, 폴, 레디저, 리차드, 가브리엘슨, 커트, 하이니스, 존 비., 화이트, 칼 알.
  4. [국제] METHOD FOR PREPARING GRAPHENE-COATED POWDER MATERIAL, AND PRODUCT OF METHOD | LI QING, TONG YUNXIAO, LI HERAN, WANG ZHONGHUI,
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