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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0010327 (2019-01-28) | |
공개번호 | 10-2020-0093171 (2020-08-05) | |
등록번호 | 10-2162972-0000 (2020-09-28) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190010327 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-01-28) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 특정 사이즈로 입도 조절된 나노입자의 새로운 분리 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 10 나노미터 미만의 크기로 입도 조절된 나노입자의 새로운 분리 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 저가의 공정으로 수나노 크기와 같이 특정 사이즈로 크기가 제어된 나노입자만을 선택적으로 분리할 수 있으며, 상기 나노입자는 유기화합물을 이용한 표면코팅으로 응집과 산화에 대한 안정성을 개선시킬 수 있다.
실리콘 분말을 증류수에 분산시킨 후 불산을 첨가하여 실리콘의 자연산화막을 제거하는 단계;광 조사하여, 불산과 광조사에 의한 광화학적 반응에 의해 실리콘 입자 표면이 에칭되어 나노입자 크기로 작아지는 단계;상기 나노입자 크기의 실리콘 입자 표면에, 말단에 탄소 이중결합(C=C)을 갖는 화합물을 첨가하여 10 나노미터 미만의 입도를 갖는 실리콘 입자가 복합체를 형성하는 단계;상기 복합체가 용매 상에 부유하여 층 분리를 형성하는 단계; 및부유한 복합체를 분리하여 10 나노미터 미만의 입도를 갖는 실리콘 입자들을 수득하는 단계를 포함하는
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