초록 ▼

본 발명은 황산폐산 내의 과산화수소를 제거하기 위한 체류형 활성탄 촉매 분해방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 반도체 제조과정 중 웨이퍼 세정공정에서 발생하는 황산폐산 내의 과산화수소를 활성탄 촉매를 통해 분해하여 황산을 정제하는 방법에 관한 것이다.국내 반도체산업은 세계 최고 수준으로 발달하고 증가되는 추세이다. 이와 관련하여 필연적으로 발생하는 과산화수소를 포함하는 황산폐산이 발생하는데, 현재 칼슘중화방법을 통한 처분이나 황산철 제조 및 수처리제 제조 외에는 재활용 기술이 부족한 상황이다. 본 발명의 기술은 황산폐산의 불순물을

본 발명은 황산폐산 내의 과산화수소를 제거하기 위한 체류형 활성탄 촉매 분해방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 반도체 제조과정 중 웨이퍼 세정공정에서 발생하는 황산폐산 내의 과산화수소를 활성탄 촉매를 통해 분해하여 황산을 정제하는 방법에 관한 것이다.국내 반도체산업은 세계 최고 수준으로 발달하고 증가되는 추세이다. 이와 관련하여 필연적으로 발생하는 과산화수소를 포함하는 황산폐산이 발생하는데, 현재 칼슘중화방법을 통한 처분이나 황산철 제조 및 수처리제 제조 외에는 재활용 기술이 부족한 상황이다. 본 발명의 기술은 황산폐산의 불순물을제거하여 정제하는 방법으로 묽은 황산을 제조하여 산업자원으로 활용 할 수 있도록 하므로 환경오염방지와 산업의 경제적인 비용절감 효과가 매우 우수함을 알 수 있다.

대표청구항 ▼

(제1단계) 반도체 산업에서 발생하는 황산폐산을 수집하는 단계;(제2단계) 체류형 분해조에 황산폐산을 투입하는 단계;(제3단계) 상기 제2단계의 체류형 분해조에 비표면적 500 내지 3000 m2/g의 입상 형태인 활성탄을 투입하여 황산폐산 내 과산화소수를 분해하는 단계; 및(제4단계) 상기 제3단계에서 과산화수소 분해가 완료된 황산을 체류형 분해조 내의 여과장치를 통하여 황산 저장탱크로 이송하는 단계;를 포함하며,상기 체류형 분해조는 세 개의 분해조를 연결한 연속식 분해조이며, 상기 연속식 분해조는 황산폐산 100 중량부 기준 활

(제1단계) 반도체 산업에서 발생하는 황산폐산을 수집하는 단계;(제2단계) 체류형 분해조에 황산폐산을 투입하는 단계;(제3단계) 상기 제2단계의 체류형 분해조에 비표면적 500 내지 3000 m2/g의 입상 형태인 활성탄을 투입하여 황산폐산 내 과산화소수를 분해하는 단계; 및(제4단계) 상기 제3단계에서 과산화수소 분해가 완료된 황산을 체류형 분해조 내의 여과장치를 통하여 황산 저장탱크로 이송하는 단계;를 포함하며,상기 체류형 분해조는 세 개의 분해조를 연결한 연속식 분해조이며, 상기 연속식 분해조는 황산폐산 100 중량부 기준 활성탄이 0.5~1 중량부가 투입된 분해조, 황산폐산 100 중량부 기준 1~2 중량부가 투입된 분해조 및 황산폐산 100 중량부 기준 2~5 중량부가 투입된 분해조가 연속적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 과산화수소 제거방법.