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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0085363 (2019-07-15) | |
공개번호 | 10-2021-0008767 (2021-01-25) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190085363 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 건식 혼합법을 이용하여 양극 활물질의 표면에 나노 크기의 고분자 입자 코팅층을 형성하는 양극재의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 양극재에 관한 것으로, 본 발명의 양극재의 제조 방법에 의하면 양극 활물질과 전해액 간의 부반응을 억제함으로써, 수명 특성이 우수하고, 고온 및 고전압의 조건에서 안정성이 향상될 수 있는 양극재를 제조할 수 있다.
충돌 혼합(impingement mixing) 공정을 이용하여 고분자 나노 분말을 제조하는 단계; 및상기 고분자 나노 분말과 양극 활물질을 건식 혼합하여 양극 활물질 상에 고분자 나노 입자를 포함하는 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 양극재의 제조 방법.
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