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저점도 히알루론산 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C08B-037/08
  • C08J-003/03
  • C08J-003/28
출원번호 10-2019-0094124 (2019-08-02)
공개번호 10-2021-0015377 (2021-02-10)
등록번호 10-2313623-0000 (2021-10-12)
DOI http://doi.org/10.8080/1020190094124
발명자 / 주소
  • 박지용 / 경기도 고양시 일산동구 노루목로 ** 호수마을*단지아파트 ***동 ***호
  • 김성한 / 서울 송파구 올림픽로 *** A동 ****호
  • 이현아 / 서울시 용산구 이촌로 *** 래미안 첼리투스 ***-****
  • 김정운 / 서울특별시 은평구 증산로**길 **-** *동 ***호
출원인 / 주소
  • 연세대학교 산학협력단 / 서울특별시 서대문구 연세로 ** (신촌동, 연세대학교)
  • 주식회사 뉴트렉스테크놀러지 / 충청남도 금산군 추부면 숭암로 ***
대리인 / 주소
  • 특허법인지담
심사청구여부 있음 (2019-08-02)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명의 일실시예는 저점도 히알루론산의 제조방법을 제공하고, 보다 구체적으로는 광촉매-자외선 처리를 이용하여 저점도 히알루론산의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따라 제조된 히알루론산은 점도가 현저히 감소하였고 또한 미생물 및 생물독성(엔도톡신)의 수치가 감소하였다.

대표청구항

히알루론산 또는 그의 염을 준비하는 단계;상기 히알루론산 또는 그의 염을 용매에 넣어서 용액화시키는 단계; 및상기 용액화된 히알루론산 또는 그의 염을 광촉매-자외선으로 처리하는 단계;를 포함하는 저점도 히알루론산 제조방법으로서,상기 광촉매는 TiO2인 것을 특징으로 하고,상기 광촉매-자외선 처리 단계는 TiO2 광촉매가 코팅된 석영튜브를 포함하는 광촉매-자외선 장치로 수행되는 것을 특징으로 하며,상기 광촉매-자외선 처리 단계는 상기 광촉매가 코팅되어 있는 석영튜브에 히알루론산을 순환시키면서 자외선을 조사하는 것을 특징으로 하고,상기

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 저분자 다당류의 제조방법 | 조석형, 김공수
  2. [한국] 폴리사카라이드의 해중합 및 관련 제품 | 마치, 로베르토, 카시라기, 안젤로, 노르치니, 가브리엘, 텐코니, 마우로, 플로리디, 지오반니, 리 바씨, 지우세페, 메네구쪼, 엔조
  3. [일본] METHOD FOR PRODUCING GLYCOSAMINOGLYCAN WITH MOLECULAR WEIGHT REDUCED BY ULTRAVIOLET IRRADIATION | SHIBATA YUMIKO
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