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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0094124 (2019-08-02) | |
공개번호 | 10-2021-0015377 (2021-02-10) | |
등록번호 | 10-2313623-0000 (2021-10-12) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190094124 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-08-02) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 일실시예는 저점도 히알루론산의 제조방법을 제공하고, 보다 구체적으로는 광촉매-자외선 처리를 이용하여 저점도 히알루론산의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따라 제조된 히알루론산은 점도가 현저히 감소하였고 또한 미생물 및 생물독성(엔도톡신)의 수치가 감소하였다.
히알루론산 또는 그의 염을 준비하는 단계;상기 히알루론산 또는 그의 염을 용매에 넣어서 용액화시키는 단계; 및상기 용액화된 히알루론산 또는 그의 염을 광촉매-자외선으로 처리하는 단계;를 포함하는 저점도 히알루론산 제조방법으로서,상기 광촉매는 TiO2인 것을 특징으로 하고,상기 광촉매-자외선 처리 단계는 TiO2 광촉매가 코팅된 석영튜브를 포함하는 광촉매-자외선 장치로 수행되는 것을 특징으로 하며,상기 광촉매-자외선 처리 단계는 상기 광촉매가 코팅되어 있는 석영튜브에 히알루론산을 순환시키면서 자외선을 조사하는 것을 특징으로 하고,상기
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