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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0105219 (2019-08-27) | |
공개번호 | 10-2021-0025331 (2021-03-09) | |
등록번호 | 10-2227126-0000 (2021-03-08) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190105219 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-08-27) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본원은 실리콘 입자의 표면에 그래핀 층을 형성하는 단계; 및 상기 그래핀 내부에 존재하는 상기 실리콘 입자의 외부 표면을 기상 식각하는 단계를 포함하는, 요크-쉘 구조체의 제조 방법에 관한 것이다.
실리콘 입자의 표면에 그래핀 층을 형성하는 단계; 및상기 그래핀 내부에 존재하는 상기 실리콘 입자의 외부 표면을 기상 식각하는 단계;를 포함하는,요크-쉘 구조체의 제조 방법.
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