서울시립대학교 산학협력단 / 서울특별시 동대문구 서울시립대로 *** (전농동, 서울시립대학교내)
기아 주식회사 / 서울특별시 서초구 헌릉로 ** (양재동)
대리인 / 주소
한라특허법인(유한)
법적상태
공개
초록
본 발명은 이온 전도성 및 기계적 강도가 우수한, 이온 젤, 이를 포함하는 고분자 전해질 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 이온 젤의 제조방법은 단일 용기 내 반응으로 간단하면서도 효과적으로 고분자 매트릭스를 제조할 수 있으므로, 공정 단계가 간소하여 공정 효율성 및 경제성이 뛰어나다. 또한, 본 발명에 따라 제조된 이온 젤을 포함하는 고분자 전해질은 고분자 매트릭스에 포함된 단량체의 유리전이온도(Tg)가 낮음에도 우수한 이온 전도성 및 기계적 강도를 갖는다는 장점이 있다.
대표청구항▼
하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위, 및 하기 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 랜덤공중합체를 포함하는 고분자 매트릭스; 및이온성 액체(ionic liquid);를 포함하는 이온 젤.[화학식 1][화학식 2](R11은각각 독립적으로 할로겐기, 나이트릴기, 니트로기, 아민기, 치환 또는 비치환의 C1-C10 알킬기, 치환 또는 비치환의 C1-C10 알콕시기, 치환 또는 비치환의 아릴기, 치환 또는 비치환의 C5-C14 헤테로아릴기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것이고,n11은 0 내지 5 이고,R12는 수소,
하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위, 및 하기 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 랜덤공중합체를 포함하는 고분자 매트릭스; 및이온성 액체(ionic liquid);를 포함하는 이온 젤.[화학식 1][화학식 2](R11은각각 독립적으로 할로겐기, 나이트릴기, 니트로기, 아민기, 치환 또는 비치환의 C1-C10 알킬기, 치환 또는 비치환의 C1-C10 알콕시기, 치환 또는 비치환의 아릴기, 치환 또는 비치환의 C5-C14 헤테로아릴기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것이고,n11은 0 내지 5 이고,R12는 수소, 할로겐기, 나이트릴기, 니트로기, 아민기, 치환 또는 비치환의 C1-C10 알킬기, 치환 또는 비치환의 C1-C10 알콕시기, 치환 또는 비치환의 C5-C14 아릴기, 치환 또는 비치환의 헤테로아릴기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것이고,R21은 수소, 할로겐기, 나이트릴기, 니트로기, 아민기, 치환 또는 비치환의 C1-C10 알킬기, 치환 또는 비치환의 C1-C10 알콕시기, 치환 또는 비치환의 아릴기, 치환 또는 비치환의 헤테로아릴기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것이고,R22은 치환 또는 비치환의 C1-C12 알킬기, 치환 또는 비치환의 아릴기, 치환 또는 비치환의 헤테로아릴기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것이고,상기 R11 내지 R22의 치환기는 각각 독립적으로 할로젠기, 시아노기, 니트로기, C1-C8 알킬기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것이고,상기 n1 및 n2는 각각 독립적으로 상기 반복 단위의 몰비율로서, n1+ n2=1이고, n1은 0.30 내지 0.57의 실수이고, n2는 0.43 내지 0.70의 실수이다)
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